小型濺射儀儀問儀答

最近小伙伴對于濺射儀使用和技術參數問的問題比較多，今天總結一下濺射儀的一些常見的技術問題：

1、膜(mo)厚檢(jian)測儀原(yuan)理：膜(mo)厚監測儀是采用石英晶(jing)體(ti)振蕩原(yuan)理，利用頻(pin)率(lv)測量技(ji)術加上(shang)*數學算(suan)(suan)法，進行膜(mo)厚的在(zai)線(xian)鍍膜(mo)速率(lv)和實時(shi)厚度(du)計(ji)算(suan)(suan)。主要(yao)應用于MBE、OLED或金屬(shu)熱蒸(zheng)發、磁控(kong)濺射設備的薄膜(mo)制備過(guo)程(cheng)中，對膜(mo)層厚度(du)及鍍膜(mo)速率(lv)進行實時(shi)監測。

2、濺射儀是否可以鍍(du)鎳(nie)：可以鍍(du)鎳(nie)  但是 鎳(nie)是導磁(ci)金屬 所以 需要靶材盡量薄 0.5mm-1mm最好  太厚磁(ci)場無(wu)法穿透  濺射速率很低。

3、直流(liu)濺射(she)鍍膜調節：1 靶材需(xu)(xu)要良好的(de)導電性(xing), 如果具備這個條件  可以鍍    2 遇(yu)到(dao)容易(yi)氧(yang)化的(de)金屬 需(xu)(xu)要配備分(fen)子泵(beng)把本(ben)底(di)真(zhen)空(kong)抽到(dao)1E-3Pa 放氬(ya)氣維(wei)持真(zhen)空(kong)到(dao)1Pa左右鍍膜的(de)金屬接近本(ben)色。

鄭科探小型濺射儀

以上是小(xiao)伙伴近期問(wen)(wen)的比較多的問(wen)(wen)題(ti)，如果還有什么問(wen)(wen)題(ti)歡迎咨(zi)詢。