等離子清洗機的優(you)勢(shi)：

1：真空度：用皮拉尼原理測量精確到Pa，千帕是用壓力規測試，不是(shi)一(yi)個(ge)量級的。

2：傳感器：用的(de)進(jin)口的(de)氣體流(liu)量(liang)傳感器，是(shi)質(zhi)量(liang)流(liu)量(liang)計檢測氣體，精確(que)度是(shi)通(tong)入流(liu)量(liang)的(de)±1.5%。浮(fu)(fu)子(zi)流(liu)量(liang)計，是(shi)滿量(liang)程的(de)4%，而且浮(fu)(fu)子(zi)球(qiu)是(shi)上下浮(fu)(fu)動，手碰(peng)一下亂跑，真實效(xiao)果達不了那(nei)么(me)高。

4：功率是(shi)150W，國內都是(shi)統一的。

5：2路流量計，質量流量計采集更精準，流量控制(zhi) 2個精密針閥調(diao)節，線(xian)性(xing)調(diao)節度較(jiao)好。

6： 真(zhen)空采集皮拉尼原理真(zhen)空計，測量大氣壓到(dao)0.1Pa的絕對真(zhen)空。   

7： 通過(guo)精準的(de)流量檢測(ce)及真空采(cai)集 使自(zi)動控制一(yi)氣呵(he)成，通過(guo)檢測(ce)固(gu)定(ding)的(de)真空值讓射頻(pin)輝光(guang)，即使是手動匹(pi)配射頻(pin)電源，也只(zhi)需要匹(pi)配一(yi)次，下次相同工藝，基本(ben)不需要再次調(diao)節(jie)匹(pi)配 。

問：清洗(xi)光刻膠可以嗎？

答(da)：簡單的(de)(de)(de)理解(jie)就是(shi)用氧(yang)氣(qi)(qi)把光刻(ke)(ke)膠(jiao)燃燒掉，光刻(ke)(ke)膠(jiao)的(de)(de)(de)基本成(cheng)分(fen)是(shi)碳氫(qing)有機物，在射頻或微波作(zuo)用下，氧(yang)氣(qi)(qi)電(dian)離成(cheng)氧(yang)原(yuan)子并與(yu)光刻(ke)(ke)膠(jiao)發生(sheng)化(hua)(hua)學反(fan)應，生(sheng)成(cheng)一(yi)氧(yang)化(hua)(hua)碳，二氧(yang)化(hua)(hua)碳和(he)水等，再通過泵(beng)被真空抽走，完成(cheng)光刻(ke)(ke)膠(jiao)的(de)(de)(de)去除。

問：可以(yi)去除表面雜(za)質和一(yi)些(xie)膠嘛？

答：這個就是清洗半導體(ti)芯片表面纏雜(za)(za)的(de)膠和(he)雜(za)(za)質，可(ke)以去除納米級別的(de)微小的(de)膠和(he)其它顆粒或者薄膜。

問：操作方便嘛

答：操作很方便。開(kai)關(guan)打開(kai)后，石英腔體抽真(zhen)空(kong)，然后產生(sheng)等(deng)離子，等(deng)離子和表面(mian)的污染物產生(sheng)反應，產生(sheng)廢(fei)氣，真(zhen)空(kong)泵把廢(fei)氣抽走，等(deng)離子清(qing)洗機里面(mian)有一(yi)個托(tuo)盤(pan)，咱們把產品放(fang)托(tuo)盤(pan)上面(mian)，就可以清(qing)洗了。