等離(li)子(zi)(zi)清(qing)洗(xi)(xi)機(ji)，顧名思義，是(shi)通過(guo)等離(li)子(zi)(zi)體(ti)來(lai)實(shi)現清(qing)洗(xi)(xi)的設(she)備(bei)。那什么(me)是(shi)等離(li)子(zi)(zi)體(ti)呢。等離(li)子(zi)(zi)體(ti)是(shi)一種高(gao)(gao)能帶電(dian)(dian)的氣體(ti)，可以(yi)通過(guo)加(jia)(jia)熱氣體(ti)或(huo)者施加(jia)(jia)高(gao)(gao)壓電(dian)(dian)場等方式產生。因為等離(li)子(zi)(zi)具(ju)有(you)(you)高(gao)(gao)能量和高(gao)(gao)活(huo)性，可以(yi)有(you)(you)效擊穿器件(jian)表面的氧化物和有(you)(you)機(ji)物，使其(qi)腐(fu)蝕分(fen)解成氣體(ti)或(huo)者被(bei)吸附走(zou)。以(yi)此來(lai)達到精(jing)密清(qing)洗(xi)(xi)的目的。等離(li)子(zi)(zi)清(qing)洗(xi)(xi)機(ji)又分(fen)為真空等離(li)子(zi)(zi)清(qing)洗(xi)(xi)機(ji)和大氣等離(li)子(zi)(zi)清(qing)洗(xi)(xi)機(ji)。

大(da)氣等離子清(qing)洗機適用于體積較(jiao)(jiao)大(da)的(de)金屬、塑料、陶(tao)瓷等。清(qing)洗速(su)度較(jiao)(jiao)快，但其清(qing)洗效果和清(qing)洗范圍(wei)受到氣流噴射壓力(li)和角(jiao)度的(de)限制。占地較(jiao)(jiao)大(da)設備較(jiao)(jiao)為(wei)昂貴。

真空等離子清(qing)洗(xi)機在輝光范圍內(nei)可以(yi)清(qing)洗(xi)到細小夾縫內(nei)部(bu)的(de)污染物，清(qing)洗(xi)效果好(hao)，不會留下清(qing)洗(xi)痕跡適用于(yu)體積小的(de)更精密的(de)器件清(qing)洗(xi)，比如PCB制程、元器件封裝前(qian)、半(ban)導體、鍍膜工藝、實驗室測試(shi)等。設備占(zhan)地(di)面積小，價格(ge)低。

真空等(deng)離子清洗機的選擇需要(yao)注(zhu)意腔體的大小、同真空氣體環境下的匹配程(cheng)(cheng)度，頻率是否穩定等(deng)，真空倉門是否有觀察窗可直觀物體的處理過程(cheng)(cheng)。

真(zhen)空(kong)等(deng)離子清(qing)洗(xi)機的(de)配置也決定了在使用過程中的(de)清(qing)洗(xi)效(xiao)果(guo)。皮拉尼真(zhen)空(kong)計可(ke)以提(ti)供更高的(de)真(zhen)空(kong)度(du)環境，質量流(liu)量計和進口的(de)氣體傳感器可(ke)以更精(jing)確的(de)控(kong)制進氣流(liu)量。石英腔體可(ke)以提(ti)供更高的(de)潔(jie)凈度(du)等(deng)。

總體來說，?選擇使用哪(na)種(zhong)等(deng)離子(zi)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)機取決(jue)于(yu)具體的(de)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)需求(qiu)和應用場景。?大氣等(deng)離子(zi)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)機適合(he)對速(su)度和成(cheng)本(ben)有較高(gao)要(yao)求(qiu)的(de)簡單表面處理，?而真空等(deng)離子(zi)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)機則(ze)更適合(he)對清(qing)(qing)(qing)洗(xi)效果有較高(gao)的(de)要(yao)求(qiu)的(de)清(qing)(qing)(qing)洗(xi)。