產品中心
Product Center
產品簡介
小(xiao)型磁控(kong)濺射(she)儀(yi)，儀(yi)器雖小(xiao)功(gong)(gong)能齊全，配備(bei)有(you)電壓 電流反饋,樣(yang)品臺旋(xuan)轉，樣(yang)品高度調節，及電動擋板功(gong)(gong)能。通過定時調節預濺射(she)功(gong)(gong)率(lv)及薄(bo)膜沉積功(gong)(gong)率(lv)，可(ke)對大部(bu)分金屬進行均(jun)勻(yun)物理(li)沉積，真空腔室為透明石英(ying)玻(bo)璃減少樣(yang)品污染，樣(yang)品臺可(ke)旋(xuan)轉以獲得更均(jun)勻(yun)的薄(bo)膜，可(ke)制備(bei)各(ge)種金屬薄(bo)膜。
| 品牌 | 鄭科探 | 應用領域 | 電子 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺 | ?可旋轉φ62?（可安裝φ50基底） |
小型磁控濺射儀小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。
小型磁控濺射儀 通過定時調節(jie)預(yu)濺射功率及薄膜沉積功率，可(ke)對大部分金屬進行(xing)均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品(pin)污染，樣品(pin)臺可(ke)旋轉以獲(huo)得更均勻的薄膜，可(ke)制備各(ge)種金屬薄膜。
控制方(fang)式(shi) | 7寸人(ren)機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源(yuan) | 直(zhi)流濺射電源 |
鍍膜功(gong)能 | 0-999秒5段可變(bian)換(huan)功率及擋(dang)板位和樣品(pin)速(su)度(du)程序 |
功(gong)率 | ≤1000W |
輸出電壓電流(liu) | 電壓≤1000V 電流≤1A |
極(ji)限真空 | 機械泵(beng)(beng) ≤5Pa（5分鐘） 分子泵(beng)(beng)≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類(lei)型 | 電控 |
真(zhen)空腔(qiang)室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可(ke)旋轉φ62 （可(ke)安裝φ50基底） |
樣(yang)品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品(pin)濺射源調節(jie)距離 | 40-105mm |
真(zhen)空(kong)測量 | 皮拉(la)尼(ni)真(zhen)空計（已安裝 測量范圍(wei)10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yu)留真空接口 | KF25抽氣(qi)(qi)口 KF16放(fang)氣(qi)(qi)口 6mm卡套進氣(qi)(qi)口 |
公司與(yu)國內高校，科研院所有多層次的(de)(de)(de)(de)(de)合(he)作(zuo)關系，建(jian)有開放(fang)實驗室，相關領(ling)域的(de)(de)(de)(de)(de)教授、工(gong)(gong)(gong)程師、博士參(can)與(yu)公司產品(pin)的(de)(de)(de)(de)(de)研究和開發。我(wo)們秉(bing)承(cheng)公司的(de)(de)(de)(de)(de)發展(zhan)理(li)念(nian)，依靠嚴謹的(de)(de)(de)(de)(de)技術研發能力，科學(xue)合(he)理(li)的(de)(de)(de)(de)(de)生(sheng)產工(gong)(gong)(gong)藝，精(jing)(jing)益(yi)求(qiu)精(jing)(jing)的(de)(de)(de)(de)(de)制(zhi)造要求(qiu)，全(quan)心全(quan)意做好產品(pin)質量和服務工(gong)(gong)(gong)作(zuo)，科探儀(yi)器時刻懷著一(yi)顆真誠的(de)(de)(de)(de)(de)心期待與(yu)您(nin)的(de)(de)(de)(de)(de)合(he)作(zuo)。
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