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產品簡介
高真空(kong)小(xiao)型(xing)離子濺射(she)儀KT-1650PVD是一款小(xiao)型(xing)臺式(shi)濺射(she)功(gong)率可(ke)控磁控濺射(she)儀，儀器(qi)雖小(xiao)功(gong)能齊全，配(pei)備(bei)有電(dian)壓(ya) 電(dian)流反(fan)饋,樣(yang)品(pin)臺旋(xuan)轉，樣(yang)品(pin)高度調節(jie)，及電(dian)動(dong)擋板功(gong)能。通過(guo)定時調節(jie)預(yu)濺射(she)功(gong)率及薄膜(mo)沉積功(gong)率，可(ke)對大部分金屬(shu)進行均勻物理沉積，真空(kong)腔(qiang)室為透明石(shi)英玻璃減少樣(yang)品(pin)污(wu)染，樣(yang)品(pin)臺可(ke)旋(xuan)轉以獲得更(geng)均勻的(de)薄膜(mo)，可(ke)制備(bei)各種(zhong)金屬(shu)薄膜(mo)。
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相(xiang)關文章| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求氣體 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | 50mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子 |
高真空小型離子濺射儀KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。
高真空小型離子濺射儀 通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
控制方(fang)式 | 7寸人機界(jie)面 手動 自動模式切換控(kong)制 |
濺射(she)電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜(mo)功(gong)能 | 0-999秒5段可變換功(gong)率及擋板位和樣品速度(du)程序 |
功(gong)率 | ≤1000W |
輸出(chu)電壓電流 | 電壓(ya)≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵(beng) ≤5Pa（5分(fen)鐘(zhong)） 分(fen)子泵(beng)≤5*10^-3Pa |
濺射真空(kong) | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英(ying)+不銹鋼(gang)腔體(ti)φ160mm x 170mm |
樣(yang)品臺 | 可(ke)旋轉φ62 （可(ke)安裝φ50基(ji)底(di)） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘(zhong) |
樣品濺射源調節距離 | 40-105mm |
真(zhen)空測(ce)量 | 皮拉(la)尼真(zhen)空(kong)計（已安(an)裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真(zhen)空接口 | KF25抽氣口(kou) KF16放氣口(kou) 6mm卡套進氣口(kou) |
公司(si)與(yu)國內高校，科研(yan)院所有多層次的(de)(de)(de)合(he)作(zuo)關(guan)系，建有開放實驗室，相關(guan)領(ling)域的(de)(de)(de)教授、工(gong)程(cheng)師、博士參與(yu)公司(si)產(chan)品(pin)的(de)(de)(de)研(yan)究和(he)開發(fa)。我(wo)們(men)秉承公司(si)的(de)(de)(de)發(fa)展理(li)(li)念，依靠嚴謹的(de)(de)(de)技術研(yan)發(fa)能(neng)力(li)，科學合(he)理(li)(li)的(de)(de)(de)生產(chan)工(gong)藝，精(jing)益求精(jing)的(de)(de)(de)制造要求，全心全意做好產(chan)品(pin)質量和(he)服務工(gong)作(zuo)，科探儀器時(shi)刻懷著一顆真誠(cheng)的(de)(de)(de)心期待(dai)與(yu)您(nin)的(de)(de)(de)合(he)作(zuo)。
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