小型真空鎢舟熱蒸鍍儀KT-Z1650CVD

是一款小型多功能(neng)鍍膜儀，額定1800度(du)高(gao)溫(wen)，自(zi)動樣(yang)品擋板，靶臺旋(xuan)轉(zhuan)，觸摸屏多段控制，工藝儲存等功能(neng)。

（3）蒸發(fa)原子(zi)或(huo)分子(zi)在基(ji)片表面(mian)張(zhang)得沉(chen)積過程。即是蒸發(fa)，凝聚，成核，核生(sheng)長，形成連續(xu)的(de)膜。由于基(ji)板溫度遠

低于基板溫度遠(yuan)低于蒸發(fa)源溫度，因此，氣態(tai)(tai)分子(zi)在基片表面將(jiang)發(fa)生直接由氣態(tai)(tai)到(dao)固態(tai)(tai)的(de)相(xiang)轉變過程。

以下是不同真空度(du) 不同鍍(du)膜時(shi)間鍍(du)銅(tong)樣品(pin)圖

  原樣品沒有鍍膜                        115A 100秒(miao) 機械(xie)泵

115A 100秒 分子泵抽12分鐘      115A 120秒 分子(zi)泵抽20分鐘(zhong)

真空度越高 越不易(yi)氧化(hua) 越接(jie)近金(jin)屬本色

小型真空鎢舟熱蒸鍍儀KT-Z1650CVD