等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態3種狀態存在,但在一些特殊的情況下可以以第四種狀態存在,如太陽表面的物質和地球大氣中電離層中的物質。這類物質所處的狀態稱為等離子體狀態,又稱為物質的第四態。由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在,其本身很容易與固體表面發生反應。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。
1、在經過等離子清洗之后,被清洗物體已經很干燥,不必再經干燥處理即可送往下道工序。
2、不使用有害溶劑,清洗后也不會產生有害污染物,屬于有利于環保的綠色清洗方法。
3、整個清洗工藝流程在幾分鐘即可完成,因此具有效率高的特點。
4、它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部并完成清洗任務,所不用多考慮被清洗物體形狀的影響。
5、在完成清洗去污的同時,還能改變材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能,改善膜的附著力等。
6、等離子清洗的技術特點是,它不分處理對象,可處理不同的基材。無論是金屬、半 導體、氧化物還是高分子材料都可用等離子體很好地處理。因此,特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗。
7、自動化程度高,具有高精度的控制裝置,時間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會在表面產生損傷層,表面質量得到保證;由于是在真空中進行,不污染環境,保證清洗表面不被二次污染。
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