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KT-Z1650PVD是一款小(xiao)(xiao)型濺(jian)(jian)(jian)射(she)儀(yi)(yi) 直流濺(jian)(jian)(jian)射(she)鍍膜儀(yi)(yi)功率(lv)可控(kong)磁控(kong)濺(jian)(jian)(jian)射(she)儀(yi)(yi)，儀(yi)(yi)器雖小(xiao)(xiao)功能(neng)齊(qi)全，配備有(you)電壓 電流反饋,樣(yang)品(pin)(pin)臺(tai)旋轉，樣(yang)品(pin)(pin)高度(du)調(diao)節，及電動擋板功能(neng)。通過定時(shi)調(diao)節預濺(jian)(jian)(jian)射(she)功率(lv)及薄(bo)膜沉(chen)積功率(lv)，可對大部分金屬(shu)進行均(jun)勻(yun)物理沉(chen)積，真空腔室(shi)為透明石(shi)英玻璃減少樣(yang)品(pin)(pin)污染，樣(yang)品(pin)(pin)臺(tai)可旋轉以獲得更均(jun)勻(yun)的薄(bo)膜，可制(zhi)備各種金屬(shu)薄(bo)膜。

小(xiao)(xiao)型(xing)臺面式熱蒸發(fa)(fa)(fa)鍍(du)膜(mo)儀(yi)是一款小(xiao)(xiao)型(xing)臺式蒸發(fa)(fa)(fa)功(gong)(gong)(gong)率可(ke)控蒸發(fa)(fa)(fa)鍍(du)膜(mo)儀(yi)，儀(yi)器(qi)雖小(xiao)(xiao)功(gong)(gong)(gong)能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣(yang)品(pin)(pin)臺旋轉(zhuan)(zhuan)，樣(yang)品(pin)(pin)高度調節，及電動擋板(ban)功(gong)(gong)(gong)能。通過定(ding)時(shi)調節預熱功(gong)(gong)(gong)率及蒸發(fa)(fa)(fa)功(gong)(gong)(gong)率，可(ke)對(dui)大部(bu)分金屬進行均(jun)勻蒸發(fa)(fa)(fa)沉積，真(zhen)空腔(qiang)室為透明石英玻璃減少(shao)樣(yang)品(pin)(pin)污染，樣(yang)品(pin)(pin)臺可(ke)旋轉(zhuan)(zhuan)以獲得更均(jun)勻的薄(bo)膜(mo)，可(ke)制備各種金屬薄(bo)膜(mo)和有機物(wu)薄(bo)膜(mo)。

此款單靶磁控濺射儀(yi)主要(yao)用于掃描(miao)電子顯微鏡樣(yang)品鍍(du)覆導(dao)電膜(mo)（金膜(mo)），儀(yi)器操作(zuo)簡單方便(bian)，設備(bei)配有(you)微量充(chong)氣(qi)閥調節(jie)工(gong)作(zuo)真空(kong)，在(zai) 20Pa 真空(kong)保護(hu)。同時，配有(you)進氣(qi)口(kou)和微量充(chong)氣(qi)調節(jie)裝(zhuang)置，以方便(bian)空(kong)氣(qi)或氬氣(qi)等工(gong)作(zuo)氣(qi)體(ti)充(chong)入。

KT-Z1650PVD是(shi)一款(kuan)小型臺(tai)式濺射(she)功率可控(kong)磁控(kong)濺射(she)儀(yi)，儀(yi)器(qi)雖小功能(neng)齊全，配備(bei)有(you)電(dian)壓(ya) 電(dian)流反饋(kui),樣品臺(tai)旋轉，樣品高度調(diao)節，及(ji)電(dian)動擋板功能(neng)。通過定時調(diao)節預(yu)濺射(she)功率及(ji)薄(bo)(bo)膜沉積功率，可對大部分金屬(shu)進行均勻物理沉積，真空腔室(shi)為透明(ming)石英玻(bo)璃減少(shao)樣品污染，樣品臺(tai)可旋轉以獲得(de)更均勻的薄(bo)(bo)膜，可制備(bei)各種(zhong)金屬(shu)薄(bo)(bo)膜。

KT-S2DQX型真(zhen)空等(deng)離子清(qing)洗(xi)電(dian)源屬于150W 13.56MHz的射頻電(dian)源。作為一種(zhong)精密干(gan)法清(qing)洗(xi)設備，主要應用于半導體、鍍膜(mo)工(gong)藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前(qian)、COG前(qian)、真(zhen)空電(dian)子、連接器和繼電(dian)器等(deng)行業(ye)的精密清(qing)洗(xi)，塑料(liao)、橡膠(jiao)、金(jin)屬和陶瓷等(deng)表面的活化以及生命科學實(shi)驗等(deng)