KT-Z1650PVD是一款小型濺射儀 直流濺射鍍膜儀功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。

小型濺射儀 直流濺射鍍膜儀技術參數：

針(zhen)對市場上其它型(xing)號我們做(zuo)如下改進(jin)

1 腔體(ti)擴(kuo)(kuo)充口(kou)可(ke)增加擴(kuo)(kuo)展口(kou)  大可(ke)擴(kuo)(kuo)展KF40接口(kou)方便連接分子(zi)泵 或(huo) 晶控傳(chuan)感器(qi)

2 樣品可(ke)旋轉 大(da)轉速(su)20轉每分(fen)鐘 使鍍膜樣品更均勻

3 輕旋轉機械(xie)手柄 樣(yang)品高(gao)度(du)可精(jing)細(xi)調節 樣(yang)品距離(li)靶材距離(li)可到1mm

4 電動擋板 使(shi)用人(ren)機界面程(cheng)序控制打開或者關閉時間

5 可通過人機界(jie)面手動或(huo)者使用(yong)編(bian)程自動控制預濺射（洗靶(ba)） 恒定功率輸出(chu)  變(bian)換功率輸出(chu) 定時打開擋板(ban)（時間(jian)單位 秒(miao)）關(guan)閉擋板(ban) 樣品轉速  工(gong)藝可存儲  工(gong)藝名稱可改(gai) 利如 噴金20納米厚

6 腔體上蓋鉸(jiao)鏈安裝(zhuang) 更換(huan)靶材方便操作

7 此產品已申(shen)請多項技(ji)術(shu) 抄襲(xi)請慎重！！！

    目前(qian)公(gong)司已研發生產產品十多個系(xi)列幾十款(kuan)產品，產品囊(nang)括實驗(yan)電爐   CVD供氣系(xi)統(tong)   等(deng)(deng)離子(zi)清(qing)洗機(ji)   小(xiao)型離子(zi)濺(jian)射儀(yi)   小(xiao)型蒸鍍儀(yi)  石英管(guan)真(zhen)空封口   半導體(ti)檢測等(deng)(deng)。 主要適用于(yu)科研院校及工(gong)礦企(qi)業(ye)在新材(cai)料、新能源等(deng)(deng)領域物理特性及化學特性的(de)研究(jiu)(jiu)，廣銷于(yu)各大院校，及材(cai)料研究(jiu)(jiu)所。

   公(gong)司(si)(si)與國內高校，科(ke)研院所有多(duo)層次的(de)(de)合(he)作(zuo)關(guan)系，建(jian)有開放實驗室(shi)，相關(guan)領域(yu)的(de)(de)教授、高級工程師、博(bo)士參與公(gong)司(si)(si)產(chan)品的(de)(de)研究(jiu)和開發(fa)。我們(men)秉承公(gong)司(si)(si)的(de)(de)發(fa)展理(li)念，依靠嚴謹的(de)(de)技術研發(fa)能力，科(ke)學合(he)理(li)的(de)(de)生產(chan)工藝，精益求(qiu)精的(de)(de)制造(zao)要求(qiu)，全心全意(yi)做好(hao)產(chan)品質量和服務(wu)工作(zuo)，科(ke)探儀器(qi)時刻懷著一顆真誠(cheng)的(de)(de)心期待與您(nin)的(de)(de)合(he)作(zuo)。