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Product CenterKT-Z1650PVD小(xiao)(xiao)型濺(jian)射(she)儀(yi)是(shi)一款(kuan)小(xiao)(xiao)型臺(tai)式濺(jian)射(she)功(gong)率(lv)可(ke)(ke)控(kong)磁控(kong)濺(jian)射(she)儀(yi),儀(yi)器雖小(xiao)(xiao)功(gong)能齊全(quan),配備有電(dian)壓 電(dian)流反饋(kui),樣品(pin)臺(tai)旋(xuan)轉,樣品(pin)高度調(diao)節(jie),及(ji)電(dian)動擋板功(gong)能。通過定(ding)時調(diao)節(jie)預濺(jian)射(she)功(gong)率(lv)及(ji)薄膜沉積(ji)功(gong)率(lv),可(ke)(ke)對大(da)部分金屬進行均勻(yun)物(wu)理(li)沉積(ji),真空腔室為透明石(shi)英玻璃減(jian)少樣品(pin)污染,樣品(pin)臺(tai)可(ke)(ke)旋(xuan)轉以獲得更均勻(yun)的薄膜,可(ke)(ke)制備各種(zhong)金屬薄膜。
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產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子 |
KT-Z1650PVD小型濺射儀是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。
目前公司已(yi)研發(fa)生產(chan)產(chan)品(pin)(pin)十多個系(xi)列幾十款產(chan)品(pin)(pin),產(chan)品(pin)(pin)囊括(kuo)實(shi)驗電爐(lu) CVD供氣(qi)系(xi)統 等(deng)離子(zi)(zi)清洗機 小型離子(zi)(zi)濺(jian)射儀 小型蒸鍍儀 石英管真(zhen)空封(feng)口 半導體檢測等(deng)。 主(zhu)要適用于科研院校(xiao)及工礦企(qi)業在(zai)新(xin)材料(liao)、新(xin)能源(yuan)等(deng)領(ling)域物理特性及化學(xue)特性的研究(jiu),廣銷(xiao)于各大院校(xiao),及材料(liao)研究(jiu)所。
公司(si)(si)與國內(nei)高(gao)校,科研(yan)(yan)院(yuan)所有多層次的(de)(de)合(he)作(zuo)關(guan)系,建有開(kai)放實驗室,相關(guan)領域的(de)(de)教(jiao)授、高(gao)級(ji)工(gong)程(cheng)師、博士(shi)參與公司(si)(si)產品的(de)(de)研(yan)(yan)究(jiu)和開(kai)發。我們秉承公司(si)(si)的(de)(de)發展(zhan)理(li)念,依(yi)靠(kao)嚴謹的(de)(de)技(ji)術研(yan)(yan)發能(neng)力(li),科學合(he)理(li)的(de)(de)生產工(gong)藝,精(jing)益求(qiu)精(jing)的(de)(de)制造(zao)要求(qiu),全心全意做好產品質量和服務工(gong)作(zuo),科探儀器時刻懷(huai)著一顆真誠的(de)(de)心期待與您(nin)的(de)(de)合(he)作(zuo)。
小型濺射儀技術參數
控制(zhi)方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切(qie)換控制(zhi) |
濺射電源 | 40KHz濺射(she)電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板(ban)位和樣品(pin)速度(du)程序 |
大功率(lv) | ≤1000W |
大輸出電(dian)壓電(dian)流 | 電壓≤1000V 電流(liu)≤1A |
極限(xian)真空 | 機械(xie)泵 ≤5Pa(5分鐘(zhong)) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 (大可安裝(zhuang)φ50基底) |
樣品臺轉(zhuan)速 | 8轉/分(fen)鐘 |
樣品濺射源調節距(ju)離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉(la)尼真空計(已安(an)裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預留真空接口(kou) | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡(ka)套進(jin)氣口 |