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產品簡介
鄭科(ke)探KT-1650PVD 小(xiao)型離子濺射(she)儀(yi)磁(ci)控鄭科(ke)探，儀(yi)器雖小(xiao)功(gong)能齊(qi)全，配備有(you)電(dian)(dian)壓 電(dian)(dian)流(liu)反饋,樣品(pin)臺旋(xuan)轉，樣品(pin)高度調節(jie)，及電(dian)(dian)動擋板功(gong)能。通過定時調節(jie)預濺射(she)功(gong)率及薄膜沉積功(gong)率，可(ke)對大部(bu)分金屬(shu)(shu)進行(xing)均(jun)勻(yun)物(wu)理沉積，真空腔室為(wei)透明石英玻璃減少(shao)樣品(pin)污染，樣品(pin)臺可(ke)旋(xuan)轉以獲得(de)更均(jun)勻(yun)的薄膜，可(ke)制備各種金屬(shu)(shu)薄膜。
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相關(guan)文章| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求氣體 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | 50mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子 |
鄭科探KT-1650PVD 小型離子濺射儀磁控鄭科探，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
鄭科探 小型離子濺射儀磁控鄭科探 詳細介紹；
控制方式(shi) | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直(zhi)流濺(jian)射電(dian)源(yuan) |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋(dang)板(ban)位和樣品(pin)速度程序 |
功率(lv) | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電(dian)壓≤1000V 電(dian)流≤1A |
極限真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分(fen)鐘） 分(fen)子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋(dang)板(ban)類型 | 電控(kong) |
真空腔(qiang)室 | 石英+不銹(xiu)鋼腔(qiang)體φ160mm x 170mm |
樣(yang)品臺(tai) | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基(ji)底） |
樣(yang)品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品(pin)濺射源調(diao)節(jie)距離 | 40-105mm |
真空(kong)測(ce)量 | 皮(pi)拉尼(ni)真空(kong)計(ji)（已安(an)裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真(zhen)空接口 | KF25抽氣口(kou) KF16放氣口(kou) 6mm卡套進氣口(kou) |
公(gong)(gong)司(si)與國內(nei)高校，科研院(yuan)所有多層次的(de)(de)合(he)作關(guan)系，建有開放實驗室(shi)，相關(guan)領域的(de)(de)教授、工程師、博士(shi)參與公(gong)(gong)司(si)產(chan)(chan)品(pin)的(de)(de)研究和開發(fa)。我們秉承(cheng)公(gong)(gong)司(si)的(de)(de)發(fa)展(zhan)理念，依靠(kao)嚴謹的(de)(de)技術研發(fa)能力，科學合(he)理的(de)(de)生(sheng)產(chan)(chan)工藝，精(jing)益(yi)求(qiu)精(jing)的(de)(de)制造要求(qiu)，全心全意做好產(chan)(chan)品(pin)質量和服務工作，科探(tan)儀(yi)器時刻懷(huai)著一(yi)顆真誠的(de)(de)心期待(dai)與您(nin)的(de)(de)合(he)作。
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