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產品簡介
小(xiao)型離(li)子濺射儀(yi) 鄭科探/噴金(jin)儀(yi) 廠家(jia)供(gong)應通過定(ding)時調節預濺射功率(lv)(lv)及薄(bo)膜(mo)(mo)沉積功率(lv)(lv)，可對大(da)部(bu)分金(jin)屬進行均(jun)勻物理沉積，真空腔室為透明(ming)石英玻(bo)璃減少樣品(pin)(pin)污(wu)染，樣品(pin)(pin)臺可旋(xuan)轉以獲得更均(jun)勻的薄(bo)膜(mo)(mo)，可制(zhi)備(bei)各種金(jin)屬薄(bo)膜(mo)(mo)
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相(xiang)關文章(zhang)| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求氣體 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | 50mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子 |
小型離子濺射儀 鄭科探KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。
小型離子濺射儀 鄭科探通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
技術參數；
控制方式 | 7寸人機界面 手動(dong) 自(zi)動(dong)模(mo)式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換(huan)功(gong)率及擋板位和樣品速度(du)程序(xu) |
功率 | ≤1000W |
輸(shu)出電壓電流 | 電(dian)(dian)壓≤1000V 電(dian)(dian)流≤1A |
真空 | 機械泵(beng) ≤5Pa（5分(fen)鐘） 分(fen)子泵(beng)≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板(ban)類型(xing) | 電控 |
真空(kong)腔室(shi) | 石英+不銹鋼腔(qiang)體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tai) | 可旋轉φ62 （可安裝(zhuang)φ50基底(di)） |
樣(yang)品臺轉(zhuan)速 | 8轉/分鐘 |
樣品(pin)濺射源調節距離 | 40-105mm |
真空(kong)測量(liang) | 皮拉(la)尼(ni)真空計（已(yi)安裝 測量(liang)范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣(qi)口(kou) KF16放氣(qi)口(kou) 6mm卡套進氣(qi)口(kou) |
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