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產品簡介
鄭科(ke)探 小型(xing)離子濺射儀 噴金儀 廠(chang)家供應通(tong)過定(ding)時調節(jie)預濺射功率及(ji)薄(bo)(bo)膜沉積功率，可(ke)對大部分(fen)金屬(shu)進行均(jun)勻(yun)物理(li)沉積，真空腔室為透明石(shi)英玻璃減少樣品(pin)污(wu)染，樣品(pin)臺可(ke)旋轉(zhuan)以(yi)獲得更均(jun)勻(yun)的薄(bo)(bo)膜，可(ke)制備(bei)各種金屬(shu)薄(bo)(bo)膜
| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求氣體 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 | 價格區間 | 1-5萬 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,電子 |
鄭科探 小型離子濺射儀KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。
鄭科探 小型離子濺射儀 通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
技術參數；
控制方式(shi) | 7寸人(ren)機界面 手動(dong) 自動(dong)模式切換控制 |
濺(jian)射電源 | 直流濺射電源 |
鍍(du)膜功能(neng) | 0-999秒5段可變換功率及擋(dang)板(ban)位和樣品(pin)速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電(dian)壓≤1000V 電(dian)流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子(zi)泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空(kong) | ≤30Pa |
擋(dang)板類型 | 電控 |
真空(kong)腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基(ji)底） |
樣品臺(tai)轉(zhuan)速(su) | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節距離 | 40-105mm |
真空測量(liang) | 皮拉尼真(zhen)空計（已安裝 測(ce)量范(fan)圍(wei)10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yu)留真(zhen)空接口 | KF25抽(chou)氣(qi)(qi)口 KF16放氣(qi)(qi)口 6mm卡套進氣(qi)(qi)口 |
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