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Product Center小型離子濺射儀鄭州科探(tan)儀器 噴(pen)金(jin)(jin)儀 廠家供(gong)應通過定時(shi)調節(jie)預濺射功率(lv)及(ji)薄膜(mo)沉積功率(lv),可(ke)對大部(bu)分金(jin)(jin)屬進行均勻物理沉積,真(zhen)空腔(qiang)室為透明石英玻(bo)璃減少(shao)樣品污染(ran),樣品臺(tai)可(ke)旋轉(zhuan)以獲(huo)得更(geng)均勻的薄膜(mo),可(ke)制備各種金(jin)(jin)屬薄膜(mo)
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相關(guan)文章品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求氣體 |
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樣品臺尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 | 價格區間 | 1-5萬 |
產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,電子 |
小型離子濺射儀鄭州科探儀器KT-1650PVD是一款小型臺式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節,及電動擋板功能。
小型離子濺射儀鄭州科探儀器KT-Z1650PVD 通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。
小型離子濺射儀/噴金儀KT-Z1650PVD 廠家供應技術參數;
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模(mo)式切換控(kong)制 |
濺射電源(yuan) | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功(gong)率及擋板位和(he)樣品速度程序(xu) |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電(dian)(dian)壓≤1000V 電(dian)(dian)流(liu)≤1A |
真空 | 機械(xie)泵 ≤5Pa(5分(fen)鐘) 分(fen)子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型(xing) | 電(dian)控 |
真(zhen)空腔室(shi) | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tai) | 可旋轉φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源(yuan)調節距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計(已安裝 測量(liang)范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預留(liu)真空接口 | KF25抽氣(qi)口 KF16放氣(qi)口 6mm卡套進氣(qi)口 |
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