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相(xiang)關文章品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
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樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
水冷型磁控濺射儀,7寸人機(ji)界面,自動手動模式(shi)切(qie)換(huan)控制,最大功率(lv)1000w直流磁(ci)控濺射
單(dan)(dan)靶直流磁控(kong)濺射鍍膜(mo)儀可(ke)用于(yu)制備單(dan)(dan)層鐵電(dian)(dian)薄(bo)(bo)膜(mo)、導電(dian)(dian)薄(bo)(bo)膜(mo)、合金(jin)薄(bo)(bo)膜(mo)等(deng)。該單(dan)(dan)靶磁控(kong)濺射鍍膜(mo)儀與同類設(she)備相比,其不(bu)僅應用廣(guang)泛,且(qie)具有體積小便(bian)于(yu)操作的優點,是一(yi)款實驗(yan)室(shi)制備材(cai)料薄(bo)(bo)膜(mo)的理想設(she)備,特(te)別適用于(yu)實驗(yan)室(shi)研究固態電(dian)(dian)解質及(ji)OLED等(deng)
單靶直(zhi)流磁控濺射鍍膜儀是我公(gong)司自主研(yan)發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(she)備,具有標準化(hua)、模(mo)塊化(hua)、可定制化(hua)的特點。
所配電源(yuan)為1000W大(da)功率直(zhi)流電(dian)源(yuan),可用(yong)于高能量的(de)(de)(de)金屬濺射鍍膜(mo),根(gen)據(ju)實驗需求也可以選配其他規格的(de)(de)(de)直(zhi)流或者射頻電(dian)源(yuan)來實現各種材(cai)料的(de)(de)(de)鍍膜(mo)操作。
水冷型磁控濺射儀技術參數;
控(kong)制(zhi)方式 | 7寸(cun)人機界面 手動(dong) 自(zi)動(dong)模(mo)式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍(du)膜(mo)功能 | 0-999秒5段可變換功率(lv)及擋板位和(he)樣品速(su)度(du)程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓(ya)電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺(jian)射真(zhen)空(kong) | ≤30Pa |
擋板(ban)類型(xing) | 電控 |
真(zhen)空腔(qiang)室 | 石英+不銹(xiu)鋼腔(qiang)體φ160mm x 170mm |
樣品(pin)臺(tai) | 可旋轉φ62 (可安裝φ50基底(di)) |
樣品臺轉速 | 8轉(zhuan)/分鐘 |
樣品濺(jian)射源調節(jie)距離 | 40-105mm |
真空測(ce)量 | 皮拉尼真空(kong)計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預留真空(kong)接口 | KF25抽氣(qi)口(kou)(kou)(kou) KF16放氣(qi)口(kou)(kou)(kou) 6mm卡(ka)套進氣(qi)口(kou)(kou)(kou) |