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當前位置:首頁產品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD水冷型磁控(kong)濺射儀

水冷型磁控濺射儀

產品簡介

水冷(leng)型磁控(kong)(kong)濺射儀(yi),7寸人機(ji)界面,自動(dong)手動(dong)模式切(qie)換控(kong)(kong)制,最大功率1000w直流磁控(kong)(kong)濺射

產品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:1328
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品牌鄭科探濺射氣體根據需求通氣
樣品臺尺寸50mm控制方式觸摸屏智能控制
樣品倉尺寸φ160x160mm靶材尺寸50mm
靶材材質金 鉑 銅 銀 等價格區間面議
產地類別國產應用領域綜合

水冷型磁控濺射儀,7寸人機(ji)界面,自動手動模式(shi)切(qie)換(huan)控制,最大功率(lv)1000w直流磁(ci)控濺射

單(dan)(dan)靶直流磁控(kong)濺射鍍膜(mo)儀可(ke)用于(yu)制備單(dan)(dan)層鐵電(dian)(dian)薄(bo)(bo)膜(mo)、導電(dian)(dian)薄(bo)(bo)膜(mo)、合金(jin)薄(bo)(bo)膜(mo)等(deng)。該單(dan)(dan)靶磁控(kong)濺射鍍膜(mo)儀與同類設(she)備相比,其不(bu)僅應用廣(guang)泛,且(qie)具有體積小便(bian)于(yu)操作的優點,是一(yi)款實驗(yan)室(shi)制備材(cai)料薄(bo)(bo)膜(mo)的理想設(she)備,特(te)別適用于(yu)實驗(yan)室(shi)研究固態電(dian)(dian)解質及(ji)OLED等(deng)

單靶直(zhi)流磁控濺射鍍膜儀是我公(gong)司自主研(yan)發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(she)備,具有標準化(hua)、模(mo)塊化(hua)、可定制化(hua)的特點。

所配電源(yuan)為1000W大(da)功率直(zhi)流電(dian)源(yuan),可用(yong)于高能量的(de)(de)(de)金屬濺射鍍膜(mo),根(gen)據(ju)實驗需求也可以選配其他規格的(de)(de)(de)直(zhi)流或者射頻電(dian)源(yuan)來實現各種材(cai)料的(de)(de)(de)鍍膜(mo)操作。

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水冷型磁控濺射儀技術參數;

控(kong)制(zhi)方式

7寸(cun)人機界面 手動(dong) 自(zi)動(dong)模(mo)式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍(du)膜(mo)功能

0-999秒5段可變換功率(lv)及擋板位和(he)樣品速(su)度(du)程序

功率

≤1000W

輸出電壓(ya)電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺(jian)射真(zhen)空(kong)

≤30Pa

擋板(ban)類型(xing)

電控

真(zhen)空腔(qiang)室

石英+不銹(xiu)鋼腔(qiang)體φ160mm x 170mm

樣品(pin)臺(tai)

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底(di))

樣品臺轉速

8轉(zhuan)/分鐘

樣品濺(jian)射源調節(jie)距離

40-105mm

真空測(ce)量

皮拉尼真空(kong)計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空(kong)接口

KF25抽氣(qi)口(kou)(kou)(kou)    KF16放氣(qi)口(kou)(kou)(kou)   6mm卡(ka)套進氣(qi)口(kou)(kou)(kou)



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