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產品簡介
小型離子濺(jian)射(she)(she)儀KT-Z1650PVD是一款小型臺(tai)式濺(jian)射(she)(she)功(gong)(gong)率(lv)可(ke)控磁控濺(jian)射(she)(she)儀，儀器雖小功(gong)(gong)能齊全，配(pei)備有電(dian)壓(ya) 電(dian)流(liu)反(fan)饋,樣(yang)品臺(tai)旋轉，樣(yang)品高度調節，及電(dian)動擋(dang)板功(gong)(gong)能。通過定時調節預(yu)濺(jian)射(she)(she)功(gong)(gong)率(lv)及薄(bo)(bo)膜(mo)沉積功(gong)(gong)率(lv)，可(ke)對(dui)大(da)部分(fen)金屬進行均勻(yun)(yun)物理(li)沉積，真空腔室為透明石英(ying)玻(bo)璃減(jian)少樣(yang)品污染(ran)，樣(yang)品臺(tai)可(ke)旋轉以(yi)獲得更均勻(yun)(yun)的(de)薄(bo)(bo)膜(mo)，可(ke)制備各種金屬薄(bo)(bo)膜(mo)。
| 品牌 | 鄭科探 | 應用領域 | 電子 |
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小型離子濺射儀KT-Z1650PVD是一款小型臺式(shi)濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能(neng)齊全，配備有電壓 電流反饋(kui),樣(yang)品臺旋(xuan)轉，樣(yang)品高度調節，及電動(dong)擋(dang)板(ban)功能(neng)。
通過定(ding)時調(diao)節預濺射功(gong)率及薄(bo)膜沉積(ji)功(gong)率，可對大部(bu)分金屬(shu)進(jin)行均勻(yun)物理沉積(ji)，真空腔室(shi)為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tai)可旋轉以獲(huo)得(de)更均勻(yun)的薄(bo)膜，可制備各種金屬(shu)薄(bo)膜。
小型離子濺射儀技術參數
控(kong)制方式(shi) | 7寸人機界面 手動 自動模(mo)式切換控(kong)制 |
濺射電(dian)源 | 40KHz濺(jian)射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋(dang)板位和樣品(pin)速度(du)程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
極限真空(kong) | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋(dang)板類型 | 電控(kong) |
真空腔室 | 石(shi)英+不銹鋼腔(qiang)體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調(diao)節距離 | 40-105mm |
真空(kong)測量 | 皮拉(la)尼真空計（已安裝 測量(liang)范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真(zhen)空接口 | KF25抽氣口(kou) KF16放氣口(kou) 6mm卡套進氣口(kou) |
公司與(yu)國內(nei)高(gao)校(xiao)，科研院(yuan)所有(you)多(duo)層次的(de)(de)合作(zuo)(zuo)關(guan)系，建有(you)開放實驗室，相關(guan)領域的(de)(de)教授、工(gong)(gong)程師(shi)、博(bo)士參與(yu)公司產品的(de)(de)研究和開發。我們秉承公司的(de)(de)發展理念，依靠嚴謹的(de)(de)技術研發能力(li)，科學合理的(de)(de)生(sheng)產工(gong)(gong)藝，精益求(qiu)精的(de)(de)制造要求(qiu)，全心(xin)全意(yi)做(zuo)好(hao)產品質量和服務工(gong)(gong)作(zuo)(zuo)，科探儀(yi)器時刻懷著一顆真誠(cheng)的(de)(de)心(xin)期(qi)待與(yu)您的(de)(de)合作(zuo)(zuo)。
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