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產品簡介
KT-Z1650CVD是一款(kuan)小(xiao)型臺(tai)式蒸發功率(lv)(lv)可(ke)控蒸發鍍膜(mo)儀離子濺射儀，儀器雖小(xiao)功能齊全，配備有(you)電(dian)壓 電(dian)流反饋,樣品臺(tai)旋(xuan)轉(zhuan)，樣品高度調(diao)(diao)節(jie)，及電(dian)動擋板(ban)功能。通過定時調(diao)(diao)節(jie)預熱功率(lv)(lv)及蒸發功率(lv)(lv)，可(ke)對大部分金屬進行均勻(yun)(yun)蒸發沉積(ji)，真空腔室為透(tou)明(ming)石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tai)可(ke)旋(xuan)轉(zhuan)以獲得更(geng)均勻(yun)(yun)的薄膜(mo)，可(ke)制備各種金屬薄膜(mo)和有(you)機物薄膜(mo)。
| 品牌 | 鄭科探 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子 |
KT-Z1650CVD是一款小型臺式蒸發功率可控蒸發鍍膜儀離子濺射儀，儀器雖小功(gong)能齊(qi)全，配備有電壓 電流反饋,樣品(pin)臺旋轉(zhuan)，樣品(pin)高(gao)度調節(jie)，及(ji)電動擋板功(gong)能。通過定時調節(jie)預(yu)熱(re)功(gong)率及(ji)蒸發功(gong)率，可對大(da)部分金屬(shu)進行均勻蒸發沉積(ji)，真(zhen)空腔(qiang)室為(wei)透明石英玻璃減(jian)少樣品(pin)污染(ran)，樣品(pin)臺可旋轉(zhuan)以獲得(de)更均勻的薄膜，可制備各種金屬(shu)薄膜和有機物薄膜。離子濺射儀
參(can)數(shu)
設備名稱 | 小型濺射儀 | 小型(xing)蒸鍍儀 |
控制(zhi)方式 | 7寸人機界(jie)面 手動 自(zi)動模式(shi)切換控(kong)制 | 7寸人機界(jie)面(mian) 手動(dong) 自動(dong)模式切換控制 |
工作(zuo)電源 | 直(zhi)流(liu)濺射電源(yuan) | 直流熱(re)蒸(zheng)發電(dian)源 |
鍍膜(mo)功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W | ≤1500W |
輸出電(dian)壓電(dian)流 | 電壓≤1000V 電流≤1A | 電壓≤12V 電流≤100A |
真空(kong) | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa | |
腔體真(zhen)空(kong) | ≤30Pa | |
擋板(ban)類型 | 電(dian)控 | |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm | 石英腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） | |
樣品臺(tai)轉速 | 8轉/分鐘 | |
樣品濺射源調節距離 | 40-105mm | 70-140mm |
蒸發坩堝容積 | 3ML | |
蒸發溫度調節 | ≤1600℃ | |
真(zhen)空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） | |
預留(liu)真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 | |
可(ke)選配擴展 | 1 膜厚在線測試 2 分子泵 | |
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