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產品簡介
桌(zhuo)面式濺(jian)射儀KT-Z1650PVD是一款高度集成化(hua)智能化(hua)的臺式磁(ci)控濺(jian)射系統(tong)。體積(ji)小巧，但是功能出色、配(pei)置齊(qi)全(quan)。配(pei)有(you)水冷靶，自動樣品擋板，可調節(jie)濺(jian)射源距離(li)，觸摸(mo)屏控制(zhi)，工藝儲存等功能，方便快(kuai)捷。
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相關文(wen)章| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,電氣 |
桌面式濺射儀KT-Z1650PVD水(shui)冷式濺射源，可(ke)實現(xian)高功率持(chi)續運行(xing)，有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉，樣品高度調節，及電動擋板功能。通過定時調節預濺射功率及薄膜沉積功率，可對大部分金屬進行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
電子在電場的(de)(de)作用下加速(su)飛(fei)向基片(pian)的(de)(de)過程中與氬原子發生(sheng)碰(peng)撞，電(dian)(dian)離(li)(li)出(chu)大量的氬(ya)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)和電(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)，電(dian)(dian)子(zi)(zi)(zi)飛向基片。氬(ya)離(li)(li)子(zi)(zi)(zi)在電(dian)(dian)場的作用下(xia)加速轟(hong)擊靶(ba)材，濺射出(chu)大量的靶(ba)材原子(zi)(zi)(zi)，呈中(zhong)性的靶(ba)原子(zi)(zi)(zi)（或(huo)分子(zi)(zi)(zi)）沉積(ji)在基片上(shang)成膜。二次電子在加速(su)飛向基片(pian)的過程中受到磁場洛倫茲力的影響，被(bei)束(shu)縛在靠近靶面的等離子體區域內，該(gai)區域內等離子體密度很高，二(er)次(ci)電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，該(gai)電(dian)子的運動路徑很(hen)長(chang)。
桌面式濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數；
控制(zhi)方式 | 7寸人機(ji)界面 手動 自動模式切換控制(zhi) |
濺(jian)射電(dian)源(yuan) | 直流濺射電源 |
鍍(du)膜功(gong)能 | 0-999秒5段(duan)可變換功率(lv)及擋板位和樣品(pin)速度程(cheng)序 |
功率(lv) | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓(ya)≤1000V 電流(liu)≤1A |
真空 | 機(ji)械(xie)泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子(zi)泵≤5*10^-3Pa |
濺(jian)射(she)真(zhen)空 | ≤30Pa |
擋(dang)板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石(shi)英(ying)+不銹鋼(gang)腔體φ160mm x 170mm |
樣(yang)品臺(tai) | 可旋轉φ62 （可安裝(zhuang)φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺(jian)射源調(diao)節距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已(yi)安裝 測量范(fan)圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口(kou) KF16放(fang)氣口(kou) 6mm卡(ka)套進氣口(kou) |
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