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產品簡介
桌面(mian)式(shi)小(xiao)型濺射儀(yi)KT-Z1650PVD磁控濺射是一種常用的(de)物理氣相(xiang)沉積(ji)（PVD）的(de)方(fang)法，具有(you)沉積(ji)溫(wen)度低、沉積(ji)速度快(kuai)、所(suo)沉積(ji)的(de)薄膜均(jun)勻性好，成(cheng)(cheng)分(fen)接近(jin)靶材成(cheng)(cheng)分(fen)等(deng)眾多優點。
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相關文(wen)章| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,電氣 |
桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD
傳(chuan)統(tong)的濺(jian)射技術(shu)的工作原(yuan)理是：在(zai)高真空的條件下，入射離子（Ar+）在(zai)電(dian)場(chang)的作用下(xia)轟擊靶(ba)(ba)材，使(shi)得靶(ba)(ba)材表面(mian)(mian)的中性原子(zi)或(huo)分子(zi)獲得足夠動能脫(tuo)離靶(ba)(ba)材表面(mian)(mian)，沉(chen)積在(zai)基(ji)片(pian)表面(mian)(mian)形成薄膜。但是，電(dian)子(zi)會(hui)受到電(dian)場(chang)和磁場(chang)的作用，產生漂移(yi)，因而導(dao)致傳濺射效率低，電(dian)子(zi)轟擊路徑短也會(hui)導(dao)致基(ji)片(pian)溫度升高(gao)，為了提高(gao)濺射效率，在(zai)靶(ba)(ba)下(xia)方(fang)安(an)裝強磁鐵，中央(yang)和周圈分別為N、S極。電子由于(yu)洛倫茲力(li)的作用被束縛在靶材周圍，并不斷做圓周運動，產生更(geng)多的Ar+轟擊(ji)靶材(cai)，大幅提高濺射(she)(she)效率，如圖所示，采用強磁鐵(tie)控制的濺射(she)(she)稱為磁控濺射(she)(she)。
桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD廠家供應技術參數；
控制(zhi)方式(shi) | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控(kong)制(zhi) |
濺射電(dian)源 | 直流濺射電源 |
鍍膜(mo)功能(neng) | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和(he)樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出(chu)電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分(fen)鐘） 分(fen)子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板(ban)類型 | 電(dian)控 |
真(zhen)空腔室 | 石英+不銹鋼腔體(ti)φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可(ke)旋轉φ62 （可(ke)安裝φ50基底） |
樣(yang)品臺轉(zhuan)速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源(yuan)調節距離(li) | 40-105mm |
真空(kong)測量(liang) | 皮拉尼(ni)真空計（已安裝 測(ce)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yu)留真空接口 | KF25抽氣(qi)口(kou) KF16放氣(qi)口(kou) 6mm卡(ka)套進(jin)氣(qi)口(kou) |
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