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產品簡介
小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD 該產品為(wei)臺式磁控濺射鍍膜(mo)機，能夠在非導電或導電不(bu)良(liang)的(de)樣品上涂布金（Au），鈀(ba)（Pd），鉑（Pt）和金/鈀(ba)（Au / Pd）的(de)薄膜(mo)。 在較(jiao)短時(shi)間(jian)內即可形成具有細粒(li)度的(de)均勻薄膜(mo)，
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相關文章(zhang)| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,電氣 |
小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD
離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛，通(tong)過向樣(yang)品(pin)表(biao)面(mian)噴(pen)鍍金、鉑、鈀及混合靶(ba)材等金屬(shu)消(xiao)除不導(dao)電樣(yang)品(pin)的(de)(de)荷電現象，并提高(gao)觀(guan)測效率，另外可以使(shi)用噴(pen)碳(tan)附件對樣(yang)品(pin)進行蒸(zheng)碳(tan)，實(shi)現不導(dao)電樣(yang)品(pin)的(de)(de)能譜儀元素(su)定(ding)性和半定(ding)量分析(xi)。
磁控濺(jian)射優(you)點(dian)
（1）沉積速率快(kuai)，沉積效率高，適合工業生產大規模應用；
（2）基片(pian)溫(wen)度(du)低，適合塑料等不耐高溫(wen)的(de)基材鍍膜；
（3）制備的薄膜純度高、致密性好(hao)、薄膜均勻性好(hao)、膜基(ji)結合力強；
（4）可制備金屬(shu)、合金、氧化物等(deng)薄膜；
小型濺射儀鄭科探KT-Z1650PVD廠家供應技術參數；
控制方(fang)式(shi) | 7寸人機界面 手動(dong) 自(zi)動(dong)模(mo)式(shi)切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜(mo)功能 | 0-999秒5段可(ke)變換功率及擋板(ban)位和(he)樣(yang)品(pin)速度(du)程(cheng)序 |
功率 | ≤1000W |
輸出(chu)電(dian)壓電(dian)流 | 電壓(ya)≤1000V 電流(liu)≤1A |
真空 | 機械泵(beng) ≤5Pa（5分鐘） 分子泵(beng)≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋(dang)板類(lei)型 | 電(dian)控(kong) |
真空腔室 | 石英+不銹鋼(gang)腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tai) | 可(ke)旋轉(zhuan)φ62 （可(ke)安(an)裝(zhuang)φ50基底） |
樣品臺轉速(su) | 8轉/分鐘(zhong) |
樣品濺射源調節距(ju)離(li) | 40-105mm |
真空測(ce)量(liang) | 皮(pi)拉尼真空(kong)計（已(yi)安裝 測(ce)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真(zhen)空接口 | KF25抽氣(qi)(qi)口 KF16放(fang)氣(qi)(qi)口 6mm卡(ka)套進氣(qi)(qi)口 |
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