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Product Center直流磁控(kong)濺射儀(yi),產品為(wei)臺式磁控(kong)濺射鍍膜(mo)(mo)機,能(neng)夠在非導電或(huo)導電不良的(de)樣(yang)品上涂布金(Au),鈀(ba)(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(ba)(Au / Pd)的(de)薄膜(mo)(mo)。
品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 氬氣 |
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樣品臺尺寸 | 50mm | 樣品倉尺寸 | 160mm |
靶材尺寸 | 50mm | 靶材材質 | 根據需求 |
價格區間 | 面議 | 產地類別 | 國產 |
應用領域 | 綜合 |
直流磁控濺射儀,本(ben)儀器主要適用(yong)于掃(sao)描電(dian)(dian)子顯(xian)微鏡(jing)樣品鍍膜導電(dian)(dian)膜(金膜),儀器操作簡(jian)單方便,配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器離子濺射儀的工作原理是在一個較低真空的腔體內,將超過幾百伏特的電壓加載在負電極和正電極之間,使得輝光放電產生,使得正離子在電場的作用下對靶電極(負極)的轟擊加速,造成靶中原子濺射,使得一層簿膜在樣品上形成。10電子伏特為濺射原子的平均能量,因此會有非常大的熱量產生,為了使樣品不被灼傷,需要對被鍍材料特性以及是否需要采取特殊的防護方法格外注意。
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直流(liu)磁控濺射儀(yi)技術參數;
控制(zhi)方式 | 7寸人(ren)機界(jie)面 手(shou)動 自動模(mo)式切換控(kong)制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜(mo)功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣(yang)品(pin)速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電(dian)壓電(dian)流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控(kong) |
真空腔室 | 石英(ying)+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋(xuan)轉(zhuan)φ62 (可安裝φ50基底) |
樣(yang)品臺轉(zhuan)速 | 8轉/分(fen)鐘 |
樣品濺射源(yuan)調節距離 | 40-105mm |
真空測(ce)量 | 皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預留(liu)真(zhen)空接口 | KF25抽氣(qi)口(kou) KF16放氣(qi)口(kou) 6mm卡套進(jin)氣(qi)口(kou) |