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當前位置:首頁產品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD半(ban)導體(ti)真空磁(ci)控濺射儀(yi)器(qi)

半導體真空磁控濺射儀器

產品簡介

半導(dao)體真(zhen)空磁控(kong)濺射儀器(qi)鄭(zheng)州(zhou)科探(tan)KT-Z1650PVD,能夠在(zai)非導(dao)電(dian)(dian)或導(dao)電(dian)(dian)不(bu)良的樣(yang)品(pin)上涂布(bu)金(jin)(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金(jin)/鈀(Au / Pd)的薄(bo)膜(mo)。 在(zai)較短時間內即可形成(cheng)具(ju)有細粒度的均勻薄(bo)膜(mo),使樣(yang)品(pin)適用于掃描電(dian)(dian)子顯微鏡(SEM)分析。儀器(qi)結(jie)(jie)構緊(jin)湊,全自動控(kong)制(zhi),設計符合(he)人體工程學,所得結(jie)(jie)果(guo)一致,可重復性高。

產品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:1510
詳細介紹在線留言
品牌鄭科探產地類別國產
應用領域環保,能源,電子,冶金,航天

鄭州科探儀器設備是高質量定制物理 氣相沉積(PVD)系統的設計者和制造商,客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發團隊在學界科學家和工程師的支持下,高度積極地開發新設計以滿足客戶的特殊要求。

   鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。

儀(yi)器描(miao)述:

半導體真空磁控濺射儀器,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結構緊湊,全自動控制,設計符合人體工程學,所得結果一致,可重復性高。


    產(chan)品特點:

    彩色觸摸屏:數據輸入簡單快速

    • 通過觸摸(mo)屏中直觀(guan)檢測數據和曲(qu)線(xian);歷(li)史頁(ye)面可顯示歷(li)史涂層(ceng)信息。

    • 可控鍍膜速率,可得到更精細的晶粒結構

    • 可手動或自動,根據(ju)時間或根據(ju)厚(hou)度進(jin)行濺(jian)射

• 樣(yang)(yang)(yang)(yang)品臺更換簡單:標準旋轉樣(yang)(yang)(yang)(yang)品臺或(huo)選用(yong)行(xing)星式(shi)旋轉樣(yang)(yang)(yang)(yang)品臺。標準樣(yang)(yang)(yang)(yang)品臺高度可(ke)調、可(ke)傾斜、可(ke)旋轉;行(xing)星式(shi)旋轉樣(yang)(yang)(yang)(yang)品臺為(wei)多孔樣(yang)(yang)(yang)(yang)品帶來好的噴金效(xiao)果。

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半導體真空磁控濺射儀器技術參數;

控制方式(shi)

7寸(cun)人(ren)機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍(du)膜功(gong)能

0-999秒5段可(ke)變(bian)換功(gong)率及擋板位和(he)樣品速度程(cheng)序

功(gong)率

≤1000W

輸出電(dian)(dian)壓電(dian)(dian)流

電(dian)壓≤1000V  電(dian)流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分(fen)鐘(zhong))   分(fen)子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板(ban)類(lei)型

電控

真空腔室

石英(ying)+不銹鋼腔(qiang)體φ160mm x 170mm

樣品(pin)臺

可旋轉φ62  (可安(an)裝φ50基(ji)底)

樣品臺轉速

8轉/分(fen)鐘(zhong)

樣品濺射源調節距(ju)離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(ji)(已(yi)安裝 測量(liang)范圍(wei)10E5Pa  ;1E-1Pa)

預(yu)留真空接口

KF25抽氣(qi)口(kou)    KF16放氣(qi)口(kou)   6mm卡套進氣(qi)口(kou)










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