產品中心
Product Center實(shi)驗室(shi)真空磁控濺射儀器(qi)鄭州(zhou)科探KT-Z1650PVD,能夠在非導(dao)電(dian)或導(dao)電(dian)不良(liang)的(de)樣品上(shang)涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和(he)金/鈀(Au / Pd)的(de)薄膜。 在較短時(shi)間內即可形成具有(you)細粒度的(de)均勻薄膜,使樣品適用于掃描電(dian)子顯(xian)微鏡(SEM)分析(xi)。儀器(qi)結構緊湊,全自動控制(zhi),設計符(fu)合人體工程學,所得結果一致,可重(zhong)復性高。
品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
---|---|---|---|
應用領域 | 環保,能源,電子,冶金,航天 |
鄭州科探儀器設備是高質量定制物理 氣相沉積(PVD)系統的設計者和制造商,客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發團隊在學界科學家和工程師的支持下,高度積極地開發新設計以滿足客戶的特殊要求。
鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。
儀器描述:
實驗室真空磁控濺射儀器,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結構緊湊,全自動控制,設計符合人體工程學,所得結果一致,可重復性高。
產品特(te)點(dian):
• 彩色觸摸屏:數據輸入簡單快速
• 通過觸摸(mo)屏中直(zhi)觀(guan)檢測數據(ju)和曲線;歷史頁(ye)面可顯示(shi)歷史涂層信(xin)息(xi)。
• 可控鍍膜速(su)率,可得到更精(jing)細的晶粒結構(gou)
• 可手動或自動,根據(ju)時間或根據(ju)厚(hou)度進(jin)行濺射(she)
• 樣(yang)品(pin)臺更換簡單(dan):標準旋(xuan)轉(zhuan)樣(yang)品(pin)臺或選用行(xing)星式(shi)旋(xuan)轉(zhuan)樣(yang)品(pin)臺。標準樣(yang)品(pin)臺高(gao)度可(ke)調、可(ke)傾斜(xie)、可(ke)旋(xuan)轉(zhuan);行(xing)星式(shi)旋(xuan)轉(zhuan)樣(yang)品(pin)臺為(wei)多孔樣(yang)品(pin)帶來好的噴金效果。
實驗室真空磁控濺射儀器技術參數;
控制(zhi)方(fang)式(shi) | 7寸人(ren)機界(jie)面 手動 自(zi)動模(mo)式切換控(kong)制 |
濺射電(dian)源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能(neng) | 0-999秒5段可變(bian)換(huan)功率及擋板位(wei)和樣品速(su)度(du)程(cheng)序 |
功(gong)率 | ≤1000W |
輸(shu)出(chu)電(dian)壓電(dian)流 | 電壓≤1000V 電流(liu)≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa(5分(fen)鐘) 分(fen)子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真(zhen)空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控(kong) |
真空腔室 | 石英(ying)+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuan)φ62 (可安裝(zhuang)φ50基底) |
樣品臺(tai)轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節距離(li) | 40-105mm |
真空測量 | 皮(pi)拉尼(ni)真空計(已安裝 測量(liang)范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預(yu)留真空接口 | KF25抽氣(qi)口 KF16放(fang)氣(qi)口 6mm卡套進氣(qi)口 |