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當前位置:首頁產品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD實驗(yan)室真(zhen)空(kong)磁控(kong)濺射(she)儀器(qi)

實驗室真空磁控濺射儀器

產品簡介

實(shi)驗室(shi)真空磁控濺射儀器(qi)鄭州(zhou)科探KT-Z1650PVD,能夠在非導(dao)電(dian)或導(dao)電(dian)不良(liang)的(de)樣品上(shang)涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和(he)金/鈀(Au / Pd)的(de)薄膜。 在較短時(shi)間內即可形成具有(you)細粒度的(de)均勻薄膜,使樣品適用于掃描電(dian)子顯(xian)微鏡(SEM)分析(xi)。儀器(qi)結構緊湊,全自動控制(zhi),設計符(fu)合人體工程學,所得結果一致,可重(zhong)復性高。

產品型號:KT-Z1650PVD
更新時間:2024-03-27
廠商性質:生產廠家
訪問量:952
詳(xiang)細介紹(shao)在線留言
品牌鄭科探產地類別國產
應用領域環保,能源,電子,冶金,航天

鄭州科探儀器設備是高質量定制物理 氣相沉積(PVD)系統的設計者和制造商,客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發團隊在學界科學家和工程師的支持下,高度積極地開發新設計以滿足客戶的特殊要求。

   鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心,并得到了很好的參考和反饋。

儀器描述:

實驗室真空磁控濺射儀器,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結構緊湊,全自動控制,設計符合人體工程學,所得結果一致,可重復性高。


    產品特(te)點(dian):

    彩色觸摸屏:數據輸入簡單快速

    • 通過觸摸(mo)屏中直(zhi)觀(guan)檢測數據(ju)和曲線;歷史頁(ye)面可顯示(shi)歷史涂層信(xin)息(xi)。

    • 可控鍍膜速(su)率,可得到更精(jing)細的晶粒結構(gou)

    • 可手動或自動,根據(ju)時間或根據(ju)厚(hou)度進(jin)行濺射(she)

• 樣(yang)品(pin)臺更換簡單(dan):標準旋(xuan)轉(zhuan)樣(yang)品(pin)臺或選用行(xing)星式(shi)旋(xuan)轉(zhuan)樣(yang)品(pin)臺。標準樣(yang)品(pin)臺高(gao)度可(ke)調、可(ke)傾斜(xie)、可(ke)旋(xuan)轉(zhuan);行(xing)星式(shi)旋(xuan)轉(zhuan)樣(yang)品(pin)臺為(wei)多孔樣(yang)品(pin)帶來好的噴金效果。

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實驗室真空磁控濺射儀器技術參數;

控制(zhi)方(fang)式(shi)

7寸人(ren)機界(jie)面 手動 自(zi)動模(mo)式切換控(kong)制

濺射電(dian)源

直流濺射電源

鍍膜功能(neng)

0-999秒5段可變(bian)換(huan)功率及擋板位(wei)和樣品速(su)度(du)程(cheng)序

功(gong)率

≤1000W

輸(shu)出(chu)電(dian)壓電(dian)流

電壓≤1000V  電流(liu)≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分(fen)鐘)   分(fen)子泵≤5*10^-3Pa

濺射真(zhen)空

≤30Pa

擋板類型

電控(kong)

真空腔室

石英(ying)+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉(zhuan)φ62  (可安裝(zhuang)φ50基底)

樣品臺(tai)轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離(li)

40-105mm

真空測量

皮(pi)拉尼(ni)真空計(已安裝 測量(liang)范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yu)留真空接口

KF25抽氣(qi)口    KF16放(fang)氣(qi)口   6mm卡套進氣(qi)口










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