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Product Center真(zhen)空濺射(she)金(jin)(jin)屬磁(ci)控鍍膜(mo)機膜(mo)厚監測鍍膜(mo)機鄭州科(ke)探KT-Z1650PVD,能(neng)夠在非導(dao)電(dian)或導(dao)電(dian)不(bu)良的樣品上涂布(bu)金(jin)(jin)(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金(jin)(jin)/鈀(Au / Pd)的薄(bo)膜(mo)。 在較短(duan)時間(jian)內(nei)即可(ke)(ke)形(xing)成具有(you)細(xi)粒度(du)的均勻(yun)薄(bo)膜(mo),使樣品適用于掃描電(dian)子顯(xian)微鏡(jing)(SEM)分析。儀器結構(gou)緊湊,全自動控制,設計符合人(ren)體工程學,所得結果一致,可(ke)(ke)重復性高。
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相關文(wen)章品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
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應用領域 | 環保,能源,電子,冶金,航天 |
鄭州(zhou)科(ke)探(tan)儀器設備是高(gao)質(zhi)量定制(zhi)物理(li) 氣(qi)相沉(chen)積(ji)(PVD)系統的(de)設計者和(he)制(zhi)造商,客戶服務(wu)和(he)售后服務(wu)出色。擁有(you)7年以上真空和(he)薄(bo)膜沉(chen)積(ji)技術經驗。其研發(fa)團隊(dui)在學界科(ke)學家(jia)和(he)工程師的(de)支持下,高(gao)度積(ji)極地開發(fa)新設計以滿足客戶的(de)特殊要求。
鄭(zheng)科(ke)探的工程團隊設計和制造的組件(jian)符合高(gao)質量標(biao)準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中(zhong)心(xin),并得到了很(hen)好的參考和反饋。
儀器描述:
真空濺射金屬磁控鍍膜機,能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金(Au),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結構緊湊,全自動控制,設計符合人體工程學,所得結果一致,可重復性高。
產品特點:
• 彩色觸摸(mo)屏:數據輸入簡單(dan)快速。
• 通過觸(chu)摸屏(ping)中直觀檢測數據和曲線(xian);歷史頁面可顯示歷史涂層信息。
• 可(ke)(ke)控鍍膜速率,可(ke)(ke)得到更精細的(de)晶粒結(jie)構。
• 可手(shou)動(dong)或自動(dong),根據時間或根據厚度進行濺射。
• 樣品(pin)(pin)(pin)(pin)臺(tai)更(geng)換(huan)簡(jian)單:標準(zhun)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)樣品(pin)(pin)(pin)(pin)臺(tai)或選用行星式(shi)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)樣品(pin)(pin)(pin)(pin)臺(tai)。標準(zhun)樣品(pin)(pin)(pin)(pin)臺(tai)高度可(ke)(ke)調、可(ke)(ke)傾(qing)斜、可(ke)(ke)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan);行星式(shi)旋(xuan)(xuan)轉(zhuan)(zhuan)樣品(pin)(pin)(pin)(pin)臺(tai)為多孔樣品(pin)(pin)(pin)(pin)帶來好的噴金效果。
真空濺射金屬磁控鍍膜機技術參數:
控(kong)制(zhi)方式(shi) | 7寸人機界面 手動 自動模式切換(huan)控制 |
濺射電源 | 直流濺(jian)射電(dian)源(yuan) |
鍍膜功(gong)能(neng) | 0-999秒5段可變(bian)換功率(lv)及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電(dian)壓電(dian)流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空(kong) | 機械泵 ≤5Pa(5分(fen)鐘) 分(fen)子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼(gang)腔體φ160mm x 170mm |
樣品(pin)臺(tai) | 可(ke)(ke)旋轉φ62 (可(ke)(ke)安裝φ50基底) |
樣(yang)品(pin)臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預留真空(kong)接(jie)口(kou) | KF25抽氣口 KF16放(fang)氣口 6mm卡套進(jin)氣口 |