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產品簡介
金屬鍍膜磁控(kong)濺射薄(bo)膜監測，7寸人機界面，自動手(shou)動模(mo)式切(qie)換控(kong)制，最大功率1000w直流磁控(kong)濺射
| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
金屬鍍膜磁控濺射薄膜監測，7寸人機界面，自動手動模式切換(huan)控(kong)制，最(zui)大功率1000w直流磁控(kong)濺(jian)射
單靶直流磁(ci)控濺(jian)(jian)射(she)鍍(du)膜(mo)儀可用于制備單層鐵電薄(bo)(bo)膜(mo)、導電薄(bo)(bo)膜(mo)、合金(jin)薄(bo)(bo)膜(mo)等。該單靶磁(ci)控濺(jian)(jian)射(she)鍍(du)膜(mo)儀與同類(lei)設備相比(bi)，其不(bu)僅應用廣(guang)泛，且具有(you)體積小便于操作的優點(dian)，是一款實驗室制備材(cai)料(liao)薄(bo)(bo)膜(mo)的理想設備，特別適用于實驗室研究固態(tai)電解(jie)質及OLED等
單(dan)靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁(ci)控濺射鍍膜(mo)設備，具有標準化、模塊化、可定(ding)制化的特點(dian)。
所配(pei)電源為(wei)1000W大功率直(zhi)流電源(yuan)，可用于(yu)高能量(liang)的金屬濺射(she)鍍(du)膜，根據(ju)實驗需求也可以選配其他(ta)規(gui)格(ge)的直(zhi)流或者射(she)頻電源(yuan)來實現各種材料的鍍(du)膜操(cao)作。
金屬鍍膜磁控濺射薄膜監測技術參數；
控制(zhi)方式(shi) | 7寸人(ren)機界面 手動 自(zi)動模式(shi)切換控(kong)制(zhi) |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍(du)膜功能 | 0-999秒5段可(ke)變換(huan)功率及擋板位和樣品速度(du)程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電(dian)壓電(dian)流 | 電(dian)(dian)壓≤1000V 電(dian)(dian)流≤1A |
真空 | 機械泵(beng) ≤5Pa（5分鐘） 分子(zi)泵(beng)≤5*10^-3Pa |
濺射真(zhen)空 | ≤30Pa |
擋(dang)板類(lei)型 | 電(dian)控 |
真空腔室 | 不銹鋼(gang)腔(qiang)體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuan)φ62 （可安裝φ50基底） |
樣(yang)品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣(yang)品濺射源調(diao)節距離 | 40-105mm |
真空測(ce)量 | 皮拉尼(ni)真空計（已(yi)安裝 測(ce)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yu)留真空接口(kou) | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
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