產品中心
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產品簡介
不同的(de)蒸(zheng)發(fa)(fa)速率(lv)下沉積300nm的(de)Au薄(bo)膜,研(yan)究蒸(zheng)發(fa)(fa)速率(lv)對薄(bo)膜表(biao)面形(xing)(xing)貌和(he)性能的(de)影響。隨著蒸(zheng)發(fa)(fa)速率(lv)的(de)提(ti)高,薄(bo)膜的(de)結構(gou)變得致密,晶粒尺寸和(he)表(biao)面粗糙度(du)減小。高純度(du)金靶(ba)材磁控濺射儀(yi)KT-Z1650PVD在較(jiao)短時間(jian)內即可形(xing)(xing)成(cheng)具有細(xi)粒度(du)的(de)均勻薄(bo)膜，儀(yi)器結構(gou)緊湊，全自動控制，設計符合人體工(gong)程學。
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相(xiang)關文章(zhang)| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求氣體 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 | 價格區間 | 1-5萬 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 化工,電子 |
高純度金靶材磁控濺射儀
在不同的蒸發速率下沉積300nm的Au薄膜,研究蒸發速率對薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發速率的提高,薄膜的結構變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。金薄膜方阻隨著蒸發速率提高無明顯變化,而方阻均勻性變差,但在可接受的范圍內。但蒸發速率過高會引起金屬大顆粒增多。因此,選用適合的蒸發速率對Au膜質量有很大影響。
高純度金靶材
應用領域：
離(li)子濺射儀在掃描電(dian)鏡中應用十(shi)分廣泛，通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材(cai)等金屬(shu)消除不導(dao)電(dian)樣品的荷電(dian)現象，并提高觀測效率，另外可(ke)以使用噴碳附件對樣品進行蒸(zheng)碳，實現不導(dao)電(dian)樣品的能譜儀元素(su)定性和半定量分析。
高純度金靶材磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠家供應技術參數；
控制(zhi)方(fang)式 | 7寸人機(ji)界面 手動 自動模(mo)式切換控制 |
濺(jian)射(she)電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功(gong)能 | 0-999秒5段可(ke)變(bian)換功率(lv)及擋板位和(he)樣品速度(du)程(cheng)序 |
功(gong)率 | ≤1000W |
輸(shu)出電(dian)壓電(dian)流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分(fen)鐘） 分(fen)子(zi)泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空(kong) | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空(kong)腔室(shi) | 石(shi)英(ying)+不銹(xiu)鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣(yang)品臺 | 可(ke)旋轉φ62 （可(ke)安裝φ50基(ji)底） |
樣(yang)品臺轉速 | 8轉(zhuan)/分鐘 |
樣品濺射源調節距離 | 40-105mm |
真空(kong)測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范(fan)圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留(liu)真空接口 | KF25抽氣口(kou) KF16放氣口(kou) 6mm卡套進(jin)氣口(kou) |
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