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產品簡介
金屬(shu)磁(ci)控濺射(she)儀， 外(wai)(wai)形小巧 ，功(gong)率電(dian)流大小可調，觸(chu)摸屏控制，有工(gong)藝儲存功(gong)能，外(wai)(wai)配水冷機可長時(shi)間工(gong)作(zuo)。
| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
金屬磁控濺射儀這是一種易于使用的基本儀器，用于SEM試樣的鍍(du)金。它具有全可變電流控制(zhi)、帶(dai)暫停選(xuan)項的數字過程定時(shi)器、可變高度(du)試樣臺、鉸鏈頂板和 O 形圈(quan)密(mi)封真空(kong)室。該控制裝(zhuang)置允許獨(du)立(li)于氣體壓力設置濺射電(dian)流，氣體壓力由手動泄漏閥單獨(du)調節。覆(fu)蓋(gai)面(mian)和晶粒尺寸針對任何試(shi)樣進行了優化(hua),徑目標(biao)的冷磁控(kong)管型磁頭能夠以最(zui)小的加熱實現高效的濺(jian)射。鍍膜時間由帶有數(shu)字讀數(shu)的定時器(qi)(qi)設置并存儲(chu)在(zai)存儲(chu)器(qi)(qi)中。真空(kong)狀態和濺(jian)射電(dian)流(liu)顯示在(zai)C觸摸(mo)屏上。
金屬磁控濺射儀廠家供應技術參數；
控制方式(shi) | 7寸人機(ji)界面 手動(dong) 自動(dong)模式切換控制 |
濺射電源(yuan) | 直流濺射電源 |
鍍(du)膜功能 | 0-999秒(miao)5段可變(bian)換功率(lv)及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓(ya)電流 | 電(dian)(dian)壓≤1000V 電(dian)(dian)流≤1A |
真空(kong) | 機械泵 ≤5Pa（5分(fen)鐘） 分(fen)子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型(xing) | 電控(kong) |
真空腔室(shi) | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣(yang)品臺 | 可旋(xuan)轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣(yang)品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射(she)源調節距(ju)離(li) | 40-105mm |
真空(kong)測量 | 皮拉尼真(zhen)空(kong)計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口(kou)(kou) KF16放氣口(kou)(kou) 6mm卡套進氣口(kou)(kou) |
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