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Product Center大功率濺射儀,桌面式(shi)設(she)計,觸摸屏控制,石英+不銹鋼腔體,濺射距離可(ke)調,自動電(dian)動擋(dang)板可(ke)保護樣品(pin)和清洗靶材。
品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求通氣 |
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樣品臺尺寸 | 50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
靶材材質 | 金 鉑 銅 銀 等 | 價格區間 | 面議 |
產地類別 | 國產 | 應用領域 | 綜合 |
大功率濺射儀,桌面式設計,觸摸屏控制,石英+不銹鋼腔體,濺射距離(li)可調,自動(dong)電動(dong)擋板(ban)可保護(hu)樣品和(he)清洗靶材。
離子鍍膜技術是PVD技術的一種,是指在PVD沉積過程中,被鍍材料形成金屬或者非金屬等離子體(如Ti離子,N離子),等離子體在偏壓電場的作用下,沉積在工件表面上。由于離子鍍過程中,離子的能量更強,離子繞射性更好,膜層的結合力更好,膜層致密性也更好,膜層性能更好。
離(li)子鍍(du)膜(mo)技(ji)術的應用非常(chang)廣泛(fan),常(chang)見的有(you):裝飾性鍍(du)膜(mo),工具(ju)模具(ju)硬質鍍(du)膜(mo)以(yi)及各種(zhong)功能膜(mo)層(ceng)。
大功率濺射儀技術參數;
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自(zi)動模式切換(huan)控制 |
濺射(she)電源 | 直流濺射電源 |
鍍(du)膜功能 | 0-999秒5段可(ke)變換功率及擋(dang)板位和樣(yang)品(pin)速度(du)程序(xu) |
功率(lv) | ≤1000W |
輸出(chu)電壓電流(liu) | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子(zi)泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電(dian)控 |
真(zhen)空(kong)腔室 | 石英(ying)+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調(diao)節距離(li) | 40-105mm |
真(zhen)空測量 | 皮拉尼真空計(已安裝 測(ce)量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預留真(zhen)空接口 | KF25抽(chou)氣口(kou) KF16放氣口(kou) 6mm卡套進氣口(kou) |