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Product Center小型真空等(deng)離子清(qing)洗(xi)機,不同氣體的(de)(de)等(deng)離子體具有(you)(you)不同的(de)(de)化學性(xing)能(neng),如氧氣的(de)(de)等(deng)離子體具有(you)(you)很(hen)高(gao)的(de)(de)氧化性(xing),能(neng)氧化光刻膠反(fan)應生成氣體,從而(er)達到(dao)清(qing)洗(xi)的(de)(de)效果。
品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
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應用領域 | 綜合 |
小型真空等離子清洗機,
等離子體清洗的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,可實現整體和局部(bu)以(yi)及(ji)復(fu)雜結構的清洗。
小型真空等離子清洗機
供電電源 | AC220V(AC110V可選) |
工作電流 | 整(zheng)機(ji)工作電(dian)流不(bu)大于3.5A(不(bu)含真空泵) |
射頻電源功率 | 150W |
射頻頻率 | 13.56MHz |
頻率偏移量 | <0.2MHz |
特性阻抗 | 50歐姆,手動匹配 |
耦合方式 | 電容耦合 |
真空度 | ≤50Pa |
腔體材質 | 高純石英 |
腔體容積 | 2L(內徑(jing)110MMX深度220MM) |
觀察窗內徑 | Φ50 |
氣體流量 | 0—50ml/min(其他量程可選) |
過程控制 | 過程手動控制 |
清洗時間 | 手動開關 |
開蓋方式 | 鉸鏈側開式法蘭 |
外形尺寸 | 450x450x360mm |
重量 | 23Kg |
真空室溫度 | 小于65°C |
冷卻方式 | 強制風冷 |
標配 | KF16真空管1米,kf16卡箍(gu)2個,不銹鋼網匣1個,電源線一根(gen),說明書(shu)一本。 |