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Product Center射頻(pin)真(zhen)空滾筒離(li)子(zi)(zi)清洗機,在真(zhen)空腔體(ti)里(li),通過射頻(pin)電源在一(yi)定的(de)壓力情況下起輝產生高能量的(de)無序(xu)的(de)等(deng)離(li)子(zi)(zi)體(ti),通過等(deng)離(li)子(zi)(zi)體(ti)轟擊被清洗產品(pin)表(biao)面.以達到(dao)清洗目的(de)
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相關(guan)文(wen)章(zhang)品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
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應用領域 | 綜合 |
射頻真空滾筒離子清洗機,
等離子體是物(wu)質的(de)一(yi)種存在(zai)狀(zhuang)態(tai)(tai),通常物(wu)質以固態(tai)(tai)、液(ye)態(tai)(tai)、氣態(tai)(tai)三(san)種狀(zhuang)態(tai)(tai)存在(zai),但(dan)在(zai)一(yi)些特殊(shu)的(de)情況(kuang)下有第四(si)種狀(zhuang)態(tai)(tai)存在(zai),如(ru)地球(qiu)大(da)氣(qi)中電離層中的物質。等離(li)子體狀態中存在下列物質:處于(yu)高(gao)速(su)運動狀態的電子;處于激活狀態的中(zhong)性原子、分子、原子團(自由(you)基);離子(zi)化的原子(zi)、分子(zi);未反應的分子(zi)(zi)、原子(zi)(zi)等(deng),但物質在總體上仍保持(chi)電中性狀態。等離子(zi)清洗/刻蝕機產生(sheng)等離子(zi)體的(de)裝置是在密封容(rong)器中設置兩個電(dian)極(ji)形成電(dian)場,用真空泵實現(xian)一定的(de)真空(kong)度,隨著氣體(ti)愈來愈稀薄,分子(zi)(zi)間距(ju)及(ji)分子(zi)(zi)或離(li)子(zi)(zi)的(de)(de)(de)自由運動距(ju)離(li)也愈來愈長,受電場作用(yong),它(ta)們發生碰撞(zhuang)而形成(cheng)等離(li)子(zi)(zi)體(ti),這些離(li)子(zi)(zi)的(de)(de)(de)活性很高,其能量足以(yi)破(po)壞(huai)幾乎(hu)所有(you)(you)的(de)(de)(de)化(hua)學鍵,在(zai)任(ren)何暴露的(de)(de)(de)表面(mian)引起(qi)化(hua)學反應(ying),不同(tong)氣體(ti)的(de)(de)(de)等離(li)子(zi)(zi)體(ti)具(ju)有(you)(you)不同(tong)的(de)(de)(de)化(hua)學(xue)性能,如氧(yang)氣的(de)等離子體具有(you)很高(gao)的(de)氧(yang)化性
射(she)頻真空滾筒離子清(qing)洗(xi)機KT-S2DQX-C
供電電源 | AC220V(AC110V可選(xuan)) |
工作電流 | 整機工(gong)作電流不大(da)于3.5A(不含真空泵) |
射頻電源功率 | 150W |
射頻頻率 | 13.56MHz |
頻率偏移量 | <0.2MHz |
特性阻抗 | 50歐姆,手動匹配 |
耦合方式 | 電容耦合 |
真空度 | ≤50Pa |
腔體材質 | 高純石英 |
腔體容積 | Φ100mmX200mm |
旋轉速度 | 20轉/分鐘 |
氣體流量 | 0—300ml/min |
過程控制 | 觸摸屏(ping)自動控制+手動調節(jie)流量 |
清洗時間 | 手0-999秒 |
外形尺寸 | 615X390X560mm |
重量 | 56Kg |
真空室溫度 | 小于65°C |
真空計量程 | 1E5Pa至1E-1Pa(皮拉尼真空計) |
標配 | KF16真空管(guan)1米(mi),kf16卡箍2個,不銹(xiu)鋼網匣1個,電源線一(yi)根,說明書一(yi)本。 |