產品中心
Product Center中頻真空滾(gun)筒離子(zi)清(qing)洗機,在真空腔體(ti)里,通過射頻電源在一定的(de)壓力情況下起(qi)輝產(chan)生高能量(liang)的(de)無序的(de)等(deng)離子(zi)體(ti),通過等(deng)離子(zi)體(ti)轟擊被(bei)清(qing)洗產(chan)品表(biao)面(mian).以達到(dao)清(qing)洗目(mu)的(de)
article
相關文章(zhang)品牌 | 鄭科探 | 產地類別 | 國產 |
---|---|---|---|
應用領域 | 綜合 |
中頻真空滾筒離子清洗機,
等離子體是物(wu)質的一種(zhong)存(cun)在狀態(tai),通常物(wu)質以固(gu)態(tai)、液(ye)態(tai)、氣態(tai)三種(zhong)狀態(tai)存(cun)在,但在一些特殊的情況下有第四種(zhong)狀態(tai)存(cun)在,如地球大氣中(zhong)電離層中的物(wu)(wu)質。等離子體狀態中存在下列物(wu)(wu)質:處于高速運動狀(zhuang)態的電子;處(chu)于(yu)激活(huo)狀(zhuang)態的中(zhong)性原子、分(fen)子、原子團(自由基);離子(zi)(zi)化的原子(zi)(zi)、分子(zi)(zi);未(wei)反應的分子、原(yuan)子等(deng),但物質在總體上仍保持電(dian)中性狀態。等(deng)離子清洗(xi)/刻蝕機產生等(deng)離子(zi)體的(de)裝置是(shi)在(zai)密封容器中設置兩個電(dian)極形(xing)成(cheng)電(dian)場(chang),用真空泵(beng)實現一定的(de)真空度,隨著氣體(ti)(ti)愈(yu)(yu)來愈(yu)(yu)稀薄,分子(zi)(zi)間距(ju)及分子(zi)(zi)或(huo)離(li)(li)子(zi)(zi)的(de)(de)(de)自由運(yun)動(dong)距(ju)離(li)(li)也愈(yu)(yu)來愈(yu)(yu)長(chang),受電(dian)場作(zuo)用(yong),它(ta)們(men)發生碰撞而形成等離(li)(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti),這些離(li)(li)子(zi)(zi)的(de)(de)(de)活性很(hen)高,其能量足以破壞幾(ji)乎所有的(de)(de)(de)化學(xue)鍵,在(zai)任(ren)何暴露(lu)的(de)(de)(de)表面引(yin)起(qi)化學(xue)反應,不同氣體(ti)(ti)的(de)(de)(de)等離(li)(li)子(zi)(zi)體(ti)(ti)具(ju)有不同的(de)(de)(de)化(hua)學性能,如氧(yang)氣的等離子體具有很高的氧(yang)化性
中頻真空滾筒(tong)離子清(qing)洗機KT-S2DQX-C
供電電源 | AC220V(AC110V可選) |
工作電流 | 整機工(gong)作電流不(bu)大于3.5A(不(bu)含真空泵(beng)) |
射頻電源功率 | 150W |
射頻頻率 | 13.56MHz |
頻率偏移量 | <0.2MHz |
特性阻抗 | 50歐姆,手動匹配 |
耦合方式 | 電容耦合 |
真空度 | ≤50Pa |
腔體材質 | 高純石英 |
腔體容積 | Φ100mmX200mm |
旋轉速度 | 20轉/分鐘 |
氣體流量 | 0—300ml/min |
過程控制 | 觸摸(mo)屏自動(dong)控(kong)制+手(shou)動(dong)調(diao)節流量 |
清洗時間 | 手0-999秒 |
外形尺寸 | 615X390X560mm |
重量 | 56Kg |
真空室溫度 | 小于65°C |
真空計量程 | 1E5Pa至1E-1Pa(皮拉尼真空計) |
標配 | KF16真空管(guan)1米(mi),kf16卡箍(gu)2個,不銹鋼網匣(xia)1個,電源線一(yi)根,說明書一(yi)本。 |