直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜，7寸人機界面，自動手動模式切換控(kong)制，最大功率1000w直流(liu)磁控(kong)濺射

單(dan)靶直流磁(ci)(ci)控濺射鍍膜(mo)儀可用(yong)于制備單(dan)層(ceng)鐵電薄(bo)膜(mo)、導電薄(bo)膜(mo)、合金(jin)薄(bo)膜(mo)等。該單(dan)靶磁(ci)(ci)控濺射鍍膜(mo)儀與同類設備相比，其不僅應用(yong)廣泛，且具有(you)體(ti)積小便于操作的優點(dian)，是(shi)一款實(shi)驗室(shi)制備材料薄(bo)膜(mo)的理想設備，特(te)別(bie)適用(yong)于實(shi)驗室(shi)研(yan)究固態(tai)電解質及OLED等

單靶(ba)直流磁控濺射鍍膜儀是我公(gong)司自主研發(fa)的一(yi)款高性價比磁(ci)控濺射鍍膜(mo)設備，具有標準化(hua)、模塊化(hua)、可定制化(hua)的特點。

所配(pei)電源為(wei)1000W大功率直流電源，可用于高能量的金(jin)屬(shu)濺射鍍(du)(du)膜，根據實驗需求也可以(yi)選配其他(ta)規(gui)格的直流或者射頻電源來(lai)實現各種材(cai)料的鍍(du)(du)膜操作(zuo)。

直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜技術參數；