KT-S2DQX型等離子清洗機表面處理設備屬于13.56MHz的(de)射頻電(dian)源。作為一種(zhong)精密干法(fa)清洗(xi)設(she)備，主要應用于半導(dao)體、鍍膜工藝、PCB制程(cheng)、PCB制程(cheng)、元器件(jian)封裝前、COG前、真空電(dian)子、連(lian)接器和繼電(dian)器等行業(ye)的(de)精密清洗(xi)，塑料、橡膠、金屬和陶(tao)瓷等表面(mian)的(de)活化以及生命(ming)科學實驗等。

      該等離子清洗機表面處理設備內置不高(gao)純石英倉體(ti)，容積為2升，結(jie)構(gou)為上的(de)通用(yong)(yong)結(jie)構(gou)。采(cai)用(yong)(yong)了新型的(de)外觀(guan)(guan)結(jie)構(gou)設計(ji)和(he)固態(tai)電源技(ji)術，使其(qi)有效(xiao)容積增大(da)，不同(tong)真空氣(qi)體(ti)環境下(xia)容易匹配，且控(kong)制(zhi)頻(pin)率穩定。真空倉門有觀(guan)(guan)察窗，可(ke)直觀(guan)(guan)物體(ti)的(de)處理(li)過程，其(qi)射頻(pin)電源與(yu)控(kong)制(zhi)都組裝(zhuang)在一(yi)個(ge)機箱內，即(ji)減少了空間的(de)占用(yong)(yong)，更便于操作(zuo)和(he)放置，同(tong)時與(yu)大(da)型清(qing)洗機相比(bi)較，從檢(jian)測功(gong)能(neng)與(yu)控(kong)制(zhi)功(gong)能(neng)的(de)設置上均可(ke)一(yi)個(ge)面(mian)板上操作(zuo)，特別適用(yong)(yong)科學實驗樣品清(qing)洗 和(he)教學

    等(deng)離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)清洗(xi)機(ji)具備(bei)有超(chao)清洗(xi)功(gong)能，并(bing)且(qie)在(zai)特定條件下還可(ke)根據(ju)需(xu)要改(gai)變(bian)用(yong)于(yu)某些材(cai)(cai)料表面(mian)的(de)性(xing)(xing)能，如把等(deng)離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)清洗(xi)機(ji)的(de)等(deng)離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)體作用(yong)于(yu)材(cai)(cai)料表面(mian)，使表面(mian)分(fen)子(zi)(zi)(zi)(zi)的(de)化學(xue)鍵發生重組，形成新的(de)表面(mian)特性(xing)(xing)。RFC-2C在(zai)超(chao)清洗(xi)過程中等(deng)離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)清洗(xi)機(ji)的(de)輝光放電(dian)不但能夠加強多(duo)數材(cai)(cai)料的(de)粘附性(xing)(xing)、相容性(xing)(xing)和(he)浸潤性(xing)(xing)，并(bing)可(ke)消毒和(he)殺菌。RFC-2C等(deng)離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)清洗(xi)機(ji)廣泛(fan)應用(yong)于(yu)光學(xue)、電(dian)子(zi)(zi)(zi)(zi)學(xue)、材(cai)(cai)料科學(xue)、生命科學(xue)、高(gao)分(fen)子(zi)(zi)(zi)(zi)科學(xue)、生物醫學(xue)、微觀流體學(xue)等(deng)領域。