等離子清洗機清洗缺點作(zuo)為(wei)一種微觀固體表(biao)面的(de)處理設(she)設(she)備，是一種全新的(de)表(biao)面處理方案。等離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)體是物質的(de)一種狀(zhuang)態，也(ye)叫(jiao)做(zuo)物質的(de)第四態。對氣(qi)體施加足夠的(de)能量使之(zhi)離(li)化便成為(wei)等離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)狀(zhuang)態。等離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)體的(de)“活(huo)(huo)性(xing)"組分(fen)(fen)包(bao)括：離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)、電子(zi)(zi)(zi)(zi)、活(huo)(huo)性(xing)基團、激(ji)發態的(de)核素（亞穩態）、光子(zi)(zi)(zi)(zi)等。等離(li)子(zi)(zi)(zi)(zi)清洗機(ji)就是通過利用這些活(huo)(huo)性(xing)組分(fen)(fen)的(de)性(xing)質來處理樣(yang)品表(biao)面，從而實現清潔等目的(de)。

等離子清洗機清洗缺點主要(yao)應用于半導體、鍍膜工藝(yi)、PCB制(zhi)程、PCB制(zhi)程、元器(qi)件(jian)封(feng)裝前(qian)、COG前(qian)、真空電子(zi)、連接(jie)器(qi)和繼電器(qi)等行業的精密清洗(xi)，塑(su)料、橡膠(jiao)、金(jin)屬和陶瓷(ci)等表面的活化(hua)以及生(sheng)命(ming)科(ke)學實驗等。

該清(qing)洗機內(nei)置高(gao)純石(shi)英倉(cang)體，采用(yong)了(le)新(xin)型(xing)的(de)電(dian)極結構設計和(he)固態電(dian)源技術(shu)，使其有(you)效容積增大，不同真空(kong) 氣體環(huan)境下容易匹配，且控制頻率(lv)穩定(ding)。真空(kong)倉(cang)門(men)有(you)觀(guan)察窗(chuang)，可(ke)直觀(guan)物體的(de)處理過(guo)程，其射頻電(dian)源與控制都組(zu)裝在(zai)一個(ge)機箱內(nei)，即減(jian)少(shao)了(le)空(kong)間的(de)占用(yong)，更(geng)便于操(cao)作(zuo)(zuo)和(he)放置，同時(shi)與大型(xing)清(qing)洗機相比(bi)較(jiao)，從檢測功(gong)(gong)能與控制功(gong)(gong)能的(de)設置上均可(ke)一個(ge)面板上操(cao)作(zuo)(zuo)，特別(bie)適用(yong)科學實驗(yan) 樣品清(qing)洗 和(he)教(jiao)學。

    滾筒等離子清洗機針對(dui)粉末(mo)或者顆粒的360度表(biao)面處(chu)理(li)設備，通過(guo)旋轉(zhuan)機構帶動(dong)石英攪拌罐使樣品處(chu)于懸空位置達到(dao)360度清洗。