等離子體(ti)清洗(xi)的機理：

1、什么是等離子(zi)體

等離(li)子體(ti)是物質的(de)一種(zhong)存(cun)在(zai)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)態(tai)，通常物質以(yi)固態(tai)、液態(tai)、氣(qi)態(tai)3種(zhong)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)態(tai)存(cun)在(zai)，但在(zai)一些特殊的(de)情況下(xia)可(ke)以(yi)以(yi)第(di)四(si)種(zhong)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)態(tai)存(cun)在(zai)，如太陽表面(mian)的(de)物質和地球大(da)氣(qi)中電離(li)層中的(de)物質。這類物質所(suo)處的(de)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)態(tai)稱為等離(li)子體(ti)狀(zhuang)(zhuang)(zhuang)態(tai)，又(you)稱為物質的(de)第(di)四(si)態(tai)。

等離(li)子(zi)(zi)體(ti)中(zhong)存在下列(lie)物質:處于(yu)高速運(yun)動狀態(tai)的(de)電子(zi)(zi);處于(yu)激(ji)活狀態(tai)的(de)中(zhong)性原子(zi)(zi)、分(fen)(fen)子(zi)(zi)、原子(zi)(zi)團(自由基(ji));離(li)子(zi)(zi)化(hua)的(de)原子(zi)(zi)、分(fen)(fen)子(zi)(zi);分(fen)(fen)子(zi)(zi)解離(li)反(fan)應(ying)過(guo)程中(zhong)生成的(de)紫(zi)外線;未(wei)反(fan)應(ying)的(de)分(fen)(fen)子(zi)(zi)、原子(zi)(zi)等，但物質在總體(ti)上仍保持電中(zhong)性狀態(tai)。

2、等(deng)離子體清洗的機理

由于(yu)等離子(zi)體(ti)中的(de)電子(zi)、離子(zi)和自(zi)由基等活性粒(li)子(zi)的(de)存在，其本身(shen)很容易與(yu)固(gu)體(ti)表面(mian)發生反應。等離子(zi)體(ti)清洗主要是依(yi)靠(kao)等離子(zi)體(ti)中活性粒(li)子(zi)的(de)“活化作用"達(da)到去除物體(ti)表面(mian)污漬的(de)目(mu)的(de)。

就反(fan)應(ying)機理(li)來看，等(deng)離子(zi)體(ti)清(qing)洗(xi)通常包括以下過程:無機氣體(ti)被激(ji)發(fa)為(wei)等(deng)離子(zi)態;氣相物(wu)質被吸附在固體(ti)表面;被吸附基(ji)團與固體(ti)表面分(fen)子(zi)反(fan)應(ying)生(sheng)成產物(wu)分(fen)子(zi);產物(wu)分(fen)子(zi)解析(xi)形(xing)成氣相;反(fan)應(ying)殘(can)余物(wu)脫離表面。

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小(xiao)型(xing)等(deng)離子清洗機具有成本(ben)低廉、操作(zuo)靈活的(de)特(te)點(dian)， 與動(dong)輒十幾萬美(mei)元(yuan)的(de)大型(xing)產品相比(bi)小(xiao)型(xing)等(deng)離子清潔小(xiao)型(xing)機具有以(yi)下優點(dian):

1、可以更(geng)靈活地操作，簡便地改變處理氣體(ti)的種類和處理程序。

2、不會對人員的身體(ti)造成任何傷害。

3、其成本(ben)對于等(deng)離子處理方法來(lai)說是微(wei)不足道的。

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